O documento descreve novas abordagens para fabricação de circuitos eletrônicos usando nanotecnologia, incluindo o processo convencional de fotolitografia e métodos como feixe de elétrons e raios-X. Também apresenta o transistor Tri-Gate da Intel, que pode reduzir desperdício de energia em até 37% e melhorar tempo de resposta devido ao confinamento quântico dos elétrons.