1. FUSION OZONE 光阻去除機 儀器簡介
1. 主要功能
光阻去除
2. 光阻材料
本實驗室曝光機台(G-line, I-line 及 E-Bean)使用之光阻
3.使用限制:
本機台屬於半導體製程後段機台，僅能使用 6 吋矽晶圓基板。玻
璃基板、 破片、製程中有經任何銅金屬製程者皆禁止使用。
4.機台設備簡介

2. FUSION O3 機台身份證
 全名: 乾式光阻去除機
 位置: Class 100
 工程師: 邱文政 (O) ext.: 7569 (C)
 代理人: 陳沛缇 (O) ext.: 7561 (C)
 機台負責人: 邱文政 (O) ext.: 7569 (H)
 作業區域化學品:
(1) 大宗氣體: N 2 , O 2
(2) 特殊氣體: N2O
(3) 瓶裝化學品:
a. 有機化合物:
b. 酸/鹼劑:
c. 氧化物:
d. 其他:
 製程模式或反應腔:
(1) 高溫光阻灰化
(2)
 反應腔真空度範圍: 常壓
 抽真空泵浦: 無
 尾氣排放物種: C, H, O
 抽尾氣泵浦種類: 無
 尾氣排放有無獨立之 Local Scrubber: 無
 反應腔溫度範圍: 350°C (Max.)
 冷卻系統種類: 自給循環冷卻水系統
 製造商或代理商: 辛耘企業股份有限公司
 代理商工程師: 宋世國, 電話: 03-5165177
 更新日期: 05 / 13 / 2009