13. 機密文件
不可外流
12
VM效益– ISMI
Tool savings
Monitor wafer reduction
Routine monitor time reduction
Cycle time reduction
Total Benefit Sum Total = USD ~70.4M per year
(以月產能三萬片之十二吋廠為例)
~4.2M
~5.4M
~6.4M
~54.4M
16. 機密文件
不可外流
1515
AVM System Theory
Conjecture Model
RI Module
GSI
RI
Process
Data
GSI Module
VMI
VMII
Only for
Training
& Tuning
√√√√√√√√√√√
Metrology
Data
√
Dual-Phase
Algorithm
Data Preprocessing
DQI Z-Scorey
DQIx Z-Score
Data Preprocessing
因具備雙階段虛擬量測演算法,所以能兼顧立即性與準確性,亦即第一階段之
VMI能即時輸出虛擬量測值以確保立即性(降低抽樣率);而第二階段則能即時
更新預測模型,以確保VMII虛擬量測值之準確性(全檢與提升產品品質)。
獨家破壞式創新產品,IP 佈局完整,不同產業與應用拓展快速 。
除能預測虛擬量測值外,亦提供此預測值之信心指標(RI)與相似度指標(GSI)、
感測器資料品質與量測品質令使用者能安心採用(確認虛擬量測值可不可靠)。
信心指標
預測演算核心資料品質評估
27. 機密文件
不可外流Reduce Sampling Rate
<Intelligent Sampling Decision (ISD)>
• ISD: The sampling rate may further be reduced with a process-unit--based
dynamic sampling decision scheme being designed according to reliable VM.
UCL
LCL
Process Time
… … … …ProductQuality
生產片 量測片
…it 1jt 2t 13t t 13t…t t1 ktm-1t… m-1t…3t 14t 15t t3 14t 15t25 2 mj j j j j j k km k k k k k
…
…
IBM
量測機台
全面品質檢測系統
AVM
抽樣量測
產品
生產機台與
流程中影響
產品品質的
資訊
生產
機台
… …
1. 抽樣比例 (ex:
1/25 to 1/50)
ISD
UCL
LCL
Process Time
… … … …
ProductQuality
ISD預計量測片 生產片 量測片
…it 1jt 2t 7t t 7t…t tm-1 ltm-3t… 13t…1t 8t 9t t1 8t 9t25 m 14j k k k k k km-2 l l l l lk k
…
…
狀態改變
抽樣量測
全面品質檢測系統
AVM
IBM
量測機台
… …
2. 機台不
穩定
3. 機台資
料異常
4. AVM 模型
狀態
5.預測精度
水準
6. 量測異常
7. 生產與機台穩定
8. 狀態改變:
調機或清機等
29. 機密文件
不可外流
此目的是將AVM 的功能與 MES 整合的一個案例。在 AVM、MES、與R2R(run-
to-run) 模組之間的介面正確定義出後,整個品質檢測系統將可實現。且R2R能力
可從Lot-to-Lot 控制進步到 Glass-to-Glass 控制,達成降低抽檢率的目標。
Integrating AVM with MES
Equipment i Equipment i+1
Process
Data
Material flowInformation flow
Metrology
AVM
)Sheet
)
MES
R2R i R2R i+1
Alarm Manager
WIP Tracking
SPC Scheduler
Equipment Manager
Material Manager Reporting
VMI for FB
R2R Control
VMII for FF
R2R Control
30. 機密文件
不可外流
2929
RtR +AVM
2
AVM技術可以彌補量測時間延遲的問題,AVM可提供即時的預測量測值,
給RtR 控制器進行下一次製程參數值的運算,成本的部份也因為不必增
加量測設備而大幅縮減。
AVM系統除了即時提供預測量測值進行APC 控制器外,並以RI及GSI指
標進行VM值之可靠度監控,以確保控制器之準確度。
Metrology
Target
Material flowInformation flow
Process
AVM
ˆkykX
Product
Process
Data
For Training or Tuning
zy
Sampled product
VMI
RI
GSI
First Run
information
Deposition time
: No. of Runsk
APC
Controller
z: No. of Actual Measurements
EWMA Filter
1
2 1( , )f RI GSI 2
31. 機密文件
不可外流
RtR +AVM (半導體 )
CVD LIT ETC SPU CMP WAT
Metrology
As Is
To Be
VM
APC CLCMetrology
Lot Based Control
Lot Based Control
VM APC CLC
Wafer Based Control
Wafer Based Control Wafer Based Control