Enviar búsqueda
Cargar
photolithography
•
0 recomendaciones
•
263 vistas
H
hadiriahimadvar
Seguir
patterning on a silicon wafer
Leer menos
Leer más
Ingeniería
Denunciar
Compartir
Denunciar
Compartir
1 de 20
Descargar ahora
Descargar para leer sin conexión
Recomendados
Micromachining bulk
Micromachining bulk
drvandananath
Electron beam lithography
Electron beam lithography
paneliya sagar
Nano Ball Milling
Nano Ball Milling
Aravind Badiger
Ceramic ppt
Ceramic ppt
RAVI KANT
Defects
Defects
Mayur Bagale
CVD-Chemical Vapor Deposition by Mr.Govahi
CVD-Chemical Vapor Deposition by Mr.Govahi
Mohamadreza Govahi
Photolithography
Photolithography
Preetha Ashok
MICROWAVE SINTERING OF REFRACTORY METALS
MICROWAVE SINTERING OF REFRACTORY METALS
Chuchu Beera
Recomendados
Micromachining bulk
Micromachining bulk
drvandananath
Electron beam lithography
Electron beam lithography
paneliya sagar
Nano Ball Milling
Nano Ball Milling
Aravind Badiger
Ceramic ppt
Ceramic ppt
RAVI KANT
Defects
Defects
Mayur Bagale
CVD-Chemical Vapor Deposition by Mr.Govahi
CVD-Chemical Vapor Deposition by Mr.Govahi
Mohamadreza Govahi
Photolithography
Photolithography
Preetha Ashok
MICROWAVE SINTERING OF REFRACTORY METALS
MICROWAVE SINTERING OF REFRACTORY METALS
Chuchu Beera
Lithography and Nanolithography
Lithography and Nanolithography
Saheem Anwar
Gixrd
Gixrd
icernatescu
Crystal defect
Crystal defect
DeepGupta49
METAL ORGANIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION- MOCVD--ABU SYED KUET
METAL ORGANIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION- MOCVD--ABU SYED KUET
A. S. M. Jannatul Islam
Metal nanocluster
Metal nanocluster
Sudama04
X-ray lithography
X-ray lithography
KumarShivam74
Ion implantation
Ion implantation
Adel Niño Iligan
Micro and nano grinding
Micro and nano grinding
Mohit Ostwal
Crystal defects
Crystal defects
BIPIN KUMAR MISHRA
Physical vapor deposition
Physical vapor deposition
Muhammad Ali Asghar
1 nanomaterial-synthesis-methods (1)
1 nanomaterial-synthesis-methods (1)
Popy Merliana
laser ablation and pyrolysis for micro machining and nano fabrication
laser ablation and pyrolysis for micro machining and nano fabrication
JAISMON FRANCIS
Magnetic materials
Magnetic materials
RUSHIT PATEL
Line defects & planes
Line defects & planes
onlinemetallurgy.com
Photolithography and its procedure
Photolithography and its procedure
karoline Enoch
Photolithography1
Photolithography1
Suhasini S Kulkarni
Spinel structure ferrites (ferrimagnetic) and ferromagnetic materials
Spinel structure ferrites (ferrimagnetic) and ferromagnetic materials
ArarsaNagari1
Me1001 unconventional machining process
Me1001 unconventional machining process
jampalasaiteja
knife line attack.pdf
knife line attack.pdf
aymanaydan2
Silicon Manufacturing
Silicon Manufacturing
AJAL A J
Gama
Gama
saeed oliyaee
TEM, Transmission Electron Microscopy & Diffraction Patterns, by Mr. Govahi
TEM, Transmission Electron Microscopy & Diffraction Patterns, by Mr. Govahi
Mohamadreza Govahi
Más contenido relacionado
La actualidad más candente
Lithography and Nanolithography
Lithography and Nanolithography
Saheem Anwar
Gixrd
Gixrd
icernatescu
Crystal defect
Crystal defect
DeepGupta49
METAL ORGANIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION- MOCVD--ABU SYED KUET
METAL ORGANIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION- MOCVD--ABU SYED KUET
A. S. M. Jannatul Islam
Metal nanocluster
Metal nanocluster
Sudama04
X-ray lithography
X-ray lithography
KumarShivam74
Ion implantation
Ion implantation
Adel Niño Iligan
Micro and nano grinding
Micro and nano grinding
Mohit Ostwal
Crystal defects
Crystal defects
BIPIN KUMAR MISHRA
Physical vapor deposition
Physical vapor deposition
Muhammad Ali Asghar
1 nanomaterial-synthesis-methods (1)
1 nanomaterial-synthesis-methods (1)
Popy Merliana
laser ablation and pyrolysis for micro machining and nano fabrication
laser ablation and pyrolysis for micro machining and nano fabrication
JAISMON FRANCIS
Magnetic materials
Magnetic materials
RUSHIT PATEL
Line defects & planes
Line defects & planes
onlinemetallurgy.com
Photolithography and its procedure
Photolithography and its procedure
karoline Enoch
Photolithography1
Photolithography1
Suhasini S Kulkarni
Spinel structure ferrites (ferrimagnetic) and ferromagnetic materials
Spinel structure ferrites (ferrimagnetic) and ferromagnetic materials
ArarsaNagari1
Me1001 unconventional machining process
Me1001 unconventional machining process
jampalasaiteja
knife line attack.pdf
knife line attack.pdf
aymanaydan2
Silicon Manufacturing
Silicon Manufacturing
AJAL A J
La actualidad más candente
(20)
Lithography and Nanolithography
Lithography and Nanolithography
Gixrd
Gixrd
Crystal defect
Crystal defect
METAL ORGANIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION- MOCVD--ABU SYED KUET
METAL ORGANIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION- MOCVD--ABU SYED KUET
Metal nanocluster
Metal nanocluster
X-ray lithography
X-ray lithography
Ion implantation
Ion implantation
Micro and nano grinding
Micro and nano grinding
Crystal defects
Crystal defects
Physical vapor deposition
Physical vapor deposition
1 nanomaterial-synthesis-methods (1)
1 nanomaterial-synthesis-methods (1)
laser ablation and pyrolysis for micro machining and nano fabrication
laser ablation and pyrolysis for micro machining and nano fabrication
Magnetic materials
Magnetic materials
Line defects & planes
Line defects & planes
Photolithography and its procedure
Photolithography and its procedure
Photolithography1
Photolithography1
Spinel structure ferrites (ferrimagnetic) and ferromagnetic materials
Spinel structure ferrites (ferrimagnetic) and ferromagnetic materials
Me1001 unconventional machining process
Me1001 unconventional machining process
knife line attack.pdf
knife line attack.pdf
Silicon Manufacturing
Silicon Manufacturing
Similar a photolithography
Gama
Gama
saeed oliyaee
TEM, Transmission Electron Microscopy & Diffraction Patterns, by Mr. Govahi
TEM, Transmission Electron Microscopy & Diffraction Patterns, by Mr. Govahi
Mohamadreza Govahi
Atomic absorption spectroscopy
Atomic absorption spectroscopy
ahmadamanpour
Artificial photosynthesis farsi
Artificial photosynthesis farsi
mohammadsadeghaghili
Laser in dentistry
Laser in dentistry
Hadi hoseini
Review of the optical properties of carbon and graphene quantum dots
Review of the optical properties of carbon and graphene quantum dots
mohamadamiri5
Mamography
Mamography
saeed oliyaee
QDThinFilms-2.pptx
QDThinFilms-2.pptx
Inv. Ali Bakhshi
تصوير برداري MRI ، جواد حسين زاده
تصوير برداري MRI ، جواد حسين زاده
Javad Hosseinzadeh
Semiconductor photon sources,منابع نوری نیمه هادی
Semiconductor photon sources,منابع نوری نیمه هادی
Morteza Ahm
Similar a photolithography
(10)
Gama
Gama
TEM, Transmission Electron Microscopy & Diffraction Patterns, by Mr. Govahi
TEM, Transmission Electron Microscopy & Diffraction Patterns, by Mr. Govahi
Atomic absorption spectroscopy
Atomic absorption spectroscopy
Artificial photosynthesis farsi
Artificial photosynthesis farsi
Laser in dentistry
Laser in dentistry
Review of the optical properties of carbon and graphene quantum dots
Review of the optical properties of carbon and graphene quantum dots
Mamography
Mamography
QDThinFilms-2.pptx
QDThinFilms-2.pptx
تصوير برداري MRI ، جواد حسين زاده
تصوير برداري MRI ، جواد حسين زاده
Semiconductor photon sources,منابع نوری نیمه هادی
Semiconductor photon sources,منابع نوری نیمه هادی
photolithography
1.
photolithography استاددرس:صالحی دکتر دهنده ارائه:ریاحی
هادی 1/20
2.
مطالب فهرست .Iمقدمه .IIفتولیتوگرافی مراحل .IIIگیری
نتیجه 2 20/
3.
مقدمه چیست؟ لیتوگرافی .1سطح یک
روی بر ماسک یک کمک به هندسی شکل یک ایجاد .2درسال روش این1796است ایجادشده.وصفحات جوهر کمک به چاپ روش از که زمانی است بوده وکاغذی فلزی. .3میشود استفاده فتولیتوگرافی ازروش مدرن های هادی نیمه درساخت.روش دراین که میشود انجام لیتوگرافی کار نور به حساس ماده و ماسک ،نور از بااستفاده. .4الکترون ،پروتوی ایکس پرتوی از که وجوددارد لیتوگرافی برای هم دیگری روشهایو ی ...میکنند استفاده. 3 20/
4.
مقدمه 4 20/ میکنیم؟ استفاده
لیتوگرافی از چرا .1ب تنهایی به نمیتواند سیلیکون از وساده نازک الیه یکرای بگیرد قرار استفاده مورد الکتریکی قطعات ساخت. .2ترانزیستور مثل الکترونیکی قطعه یک ساخت برای،نیاز همچنین و شود هندسی الگوی یک دارای نازک الیه که هست مواد از های الیه با همچنین و شود برداشته آن از بخشهایی شود داده پوشش دیگر. .3ت که رامیدهد امکان این تولیدکنندگان به لیتوگرافیزیادی عداد تولید ویفر یک روی وبر یکجا صورت به را قطعات ازکنند.
5.
مقدمه لیتوگرافی مراحل: .1سطح تمیزکردن .2اکسید
الیه ایجاد .3نور به حساس الیه ایجاد .4اولیه دادن حرارت .5ماسک تنظیم .6نور تابش .7Develop .8Etching .9دادن حرارتنهایی .10تمیزکاری 5 20/
6.
فتولیتوگرافی مراحل تمیزکاری: شود حذف
باشد ویفر سطح روی است ممکن که اضافی مواد تمام باید اکسید الیه ایجاد قبل. 6 20/
7.
فتولیتوگرافی مراحل اکسید الیه
ایجاد: اکسید از نازک الیه ایجاد های راه از یکی حرارتی روش به اکسید الیه ایجاد(سیلیکون اکسید معموال)است ویفر برروی. دردمای تیوب یک به اکسیژن کردن وارد با دروش این900سانتی درجهوباالتر گرادمیشود انجام. دارد بستگی دما به اکسید الیه ضخامت میزان. 7 20/
8.
فتولیتوگرافی مراحل نور به
حساس الیه ایجاد: میدهیم قرار اکسید سطح روی را نور به حساس ماده از الیه یه بعد مرحله در.دستگاه از کار این برایspin coaterمیشود استفاده. 8 20/
9.
فتولیتوگرافی مراحل نور به
موادحساس: .1تق ومنفی مثبت ی دسته دو به نور به حساس موادسیم میشوند. .2نسبت ولی میباشد بهتری وضوح دارای مثبت نوعنوع است گرانتر بسیار منفی. .3از کاری ابعاد که تازمانی دلیل همین به3متر میلی استفاده منفی نور به حساس ماده از نشود کمتر میشود. 9 20/
10.
مراحلفتولیتوگرافی کنیم پاک نور
به حساس ماده از باید را ویفر های لبه سپس.فرایند از بعد معموال که دلیل این بهspin coatلبه به نور به حساس ماده میابد گسترش هم ویفر پشتی های. داد انجام را فرایند این میتوان روش دو به: .1شیمیایی(حالل از استفاده) .2نور تابش 10 20/
11.
لیتوگرافی فتو مراحل اولیه
دادن حرارت: .1نور یه حساس ماده روی موجود های حالل بردن بین از .2میشوند نور جذب تغییر باعث حاللها .3ها الیه چسبندگی بهبود دادن حرارت روشهای: .1Hot plate(روش ترین مرسوم) .2درکوره دادن قرار(داغ گاز معرض در) .3مایکروویو امواج تابش 11 20/
12.
فتولیتوگرافی مراحل ماسک تنظیمنور
تابش و: .1میکنیم ماسک کننده تنظیم دستگاه وارد و کرده خنک را ویفر بعد مرحله در. .2میباشد فتولیتوگرافی کمک به قطعات ساخت مراحل ترین حیاتی از یکی ماسک کردن تنظیم.ح ماسک دقیق تنظیم عدم جراکهیک حد در تی بشود قطعات تمام بردن بین از باعث میتواند کمتر ویا میکرون. .3میباشد شیشه ویا کوارتز از معموال ماسک جنس. .4میشود تابانده منبع توسط نور ویفر برروی ماسک تنظیم از بعد.وبخشهایی میگیرند قرار نور نوردرمعرض به حساس ماده. 12 20/
13.
فتولیتوگرافی مراحل تاب و
کردن تنظیم برای متفاوت افزار سخت سهاندن میکنید مشاهده مقابل رادرشکل نور. کنند تنظیم نوع ،دراین تماسی کننده تنظیمماسک ه میگیرد قرار نمونه روی. های کننده تنظیمproximity،کننده تنظیم دراین نمیگیرد قرار نمونه روی ماسک ها.تن این تصاویرظیم تری پایین دقت از اول نوع به نسبت کننده برخورداراست. های کننده تنظیمprojectionتنظیم ،دراین میگی قرار ویفر و ماسک بین لنز یک ها کنندهرد.این است بهتر وضوح با عکسهایی داراب ها سیستم. 13/20
14.
فتولیتوگرافی مراحل که دارد
وجود ها سی ای ساخت در ماسک تنظیم برای وپیشرفته معمول روش یکsteperمیشود نامیده. ایجاد ویفر روی میخواهیم رو مشابهی یکقطعات که زمانی برای میشود استفاده روش این از کنیم.نمونه از کوچتر ماسک یک از میشود استفاده.باالست وضوح دارای. 14 20/
15.
فتولیتوگرافی مراحل دارد وجود
ازادی درجه سه ویفر روی ماسک تنظیم برای(:(x,y, θ 15/20
16.
فتولیتوگرافی مرحله Develop: .1میشود
حل شیمیای ماده یک توسط نور به حساس ماده از بخشهایی مرحله این در. .2برعکس باشد منفی واگر میشوند حل گرفتند قرار نور معرض در که هایی ،قسمت باشد مثبت نوع از نور به حساس ماده اگر. 16/20
17.
فتولیتوگرافی مراحل Etching: .1میشود
خورده حالل مایع توسط اکسید الیه از بخشهایی مرحله این در. 17 20/
18.
فتولیتوگرافی مراحل نهایی دادن
حرارت(hard bake:) .1توسط را انها ویفر روی های الیه شدن سخت برایhot plateمیدهند حرارت. .2باشد بیشتر باید اولیه دادن حرارت مرحله از مرحله این دمای. .3بین دادن حرارت زمان مدت1تا2باشد باید دقیقه.باشد کم دادن حرارت اگرمیزان میشود کم شکل وضوح باشد زیاد میشود،واگر کم ها الیه چسبیدگی میزان. .4میکنند خنک اتاق دردمای را ویفر دادن حرارت از بعد. 18 20/
19.
فتولیتوگرافی مراحل تمیزکاری: .1میشود حذف
هم نور به حساس ماده باقیمانده مرحله دراین(.striping)استفاده استون از میتوان مرحله این برای کرد. .2میشوند حذف امدند وجود به فرایند طول در که هایی واالینده اضافی مواد سایر همچنین. 19/20
20.
بندی جمع میکند استفاده
ویفر به ماسک از هندسی شکل انتقال برای اساسی مرحله سه از فتولیتوگرافی:coating,expose,develop میابد انتقال ویفر به ماسک از نظر مورد شکل فتولیتوگرافی مراحل کردن دنبال با. میباشد سی ای ساخت مراحل ترین حساس از فتولیتوگرافی عملبات. باشد پایین نقص چگالی و باال وضوح دارای باید فتولیتوگرافی عملیات. 20/20
Descargar ahora