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SEMICONDUCTORES
 SEMICONDUCTORES INTRINSECOS
 SECONDUCTORES DOPADOS
OBJETIVO
Al termino de la presentación el lector pueda
expresar con sus propias palabras la importancia de
los semiconductores intrínsecos y dopados en el
mundo de la electrónica y su impacto en la vida del
hombre.
SEMICONDUCTORES
         INTRÍNSECOS
Un cristal de silicio forma una
estructura tetraédrica similar a la
del carbono mediante enlaces
covalentes entre sus átomos, en
la figura representados en el
plano por simplicidad.
Cuando el cristal se encuentra a
temperatura ambiente, algunos
electrones pueden, absorbiendo
la energía necesaria, saltar a la
banda de conducción, dejando el
correspondiente hueco en la
banda de valencia (1). Las
energías requeridas, a
temperatura ambiente son de 1,1
y 0,72 eV para el silicio y el
germanio respectivamente.
Obviamente el proceso inverso también se produce, de modo que
los electrones pueden caer desde el estado energético
correspondiente a la banda de conducción, a un hueco en la banda
de valencia liberando energía. A este fenómeno, se le denomina
recombinación. Sucede que, a una determinada temperatura, las
velocidades de creación de pares e-h, y de recombinación se
igualan, de modo que la concentración global de electrones y
huecos permanece invariable.
 Siendo n la concentración de electrones (cargas negativas) y p la
  concentración de huecos (cargas positivas), se cumple que:
 ni = n = p
 Siendo ni la concentración intrínseca del semiconductor, función
  exclusiva de la temperatura.
 Si se somete el cristal a una diferencia de tensión, se producen
  dos corrientes eléctricas.
SEMICONDUCTORES
   INTRÍNSECOS
        Por un lado la debida al
        movimiento de los
        electrones libres de la
        banda de conducción, y por
        otro, la debida al
        desplazamiento de los
        electrones en la banda de
        valencia, que tenderán a
        saltar a los huecos
        próximos (2), originando
        una corriente de huecos en
        la dirección contraria al
        campo eléctrico cuya
        velocidad y magnitud es
        muy inferior a la de la
        banda de conducción.
SEMICONDUCTORES
            DOPADOS
El material semiconductor más
utilizado es el silicio (Si). Es el
elemento número 14 de la tabla
periódica, por lo que consta de
14 electrones, de los que 4 se
hallan en la última capa.
La estructura del Silicio es de
cristal tetraédrico en la que cada
átomo está enlazado con otros
cuatro.
SEMICONDUCTORES
            DOPADOS
Si en algunos de estos
cristales de silicio
sustituimos un átomo de
silicio por otro de
fósforo, que tiene 5
electrones en su última
capa, conseguimos que
aumente el número de
electrones libres. La carga
eléctrica total sigue siendo
neutra, pero el número de
electrones cuya energía de
unión a su átomo es baja
aumenta.
Para que nos hagamos una idea más
clara, imaginemos una estructura cristalina
tetraédrica con cuatro electrones en la capa
más externa de cada vértice. En algunos de
ellos, hay cinco electrones (en los que hemos
introducido el fósforo) por lo que uno de ellos
sobra, digamos que no tiene espacio.
Si en lugar de fósforo usamos Boro, que tiene
3 electrones en la última capa, conseguimos
dejar un “hueco” libre que puede ser ocupado
por un electrón. Es decir, en la última capa
cabrían 4 electrones pero sólo hay 3.
Este efecto de añadir impurezas de fósforo o
boro, se denomina contaminación o dopaje.
Los cristales de silicio dopados con fósforo u
otros elementos, de forma que tienen exceso
de electrones libres se denominan silicio tipo
N. Los dopados con defecto de
electrones, con huecos libres, se denominan
tipo P.
Para continuar con la explicación del dopado tenemos
también que referirnos a los semiconductores
extrínsecos:

SEMICONDUCTORES EXTRÍNSECOS:
Si a un semiconductor intrínseco, como el anterior, le
añadimos un pequeño porcentaje de impurezas, es
decir, elementos trivalentes o pentavalentes, el
semiconductor se denomina extrínseco, y se dice que
está dopado. Las impurezas pueden o no sustituir al
correspondiente átomo del semiconductor intrínseco en
su estructura cristalina original.
SEMICONDUCTOR
EXTRÍNSECO TIPO N
Es el que se ha dopado con elementos
pentavalentes (As, P o Sb).
Al tener éstos elementos 5 electrones en la
última capa, resultará que al
formarse, como antes, la estructura
cristalina, el quinto electrón no estará
ligado en ningún enlace
covalente, encontrándose, aún sin estar
libre, en un nivel energético superior a los
cuatro restantes.
Si como antes, consideramos el efecto de la
temperatura, observaremos que
ahora, además de la formación de pares e-
h, se liberarán también los electrones no
enlazados, ya que la energía necesaria para
liberar el electrón excedente es del orden de
la centésima parte de la correspondiente a
los electrones de los enlaces covalentes (en
torno a 0,01 eV).
SEMICONDUCTOR EXTRÍNSECO
         TIPO N
 Así, en el semiconductor aparecerá una mayor cantidad
  de electrones que de huecos; por ello se dice que los
  electrones son los portadores mayoritarios de la energía
  eléctrica y puesto que este excedente de electrones
  procede de las impurezas pentavalentes, a éstas se las
  llama donadoras.
 Aun siendo mayor n que p, la ley de masas se sigue
  cumpliendo, dado que aunque aparentemente sólo se
  aumente el número de electrones libres, al hacerlo, se
  incrementa la probabilidad de recombinación, lo que
  resulta en un disminución del número de huecos p, es
  decir:
 n > ni = pi > p, tal que: n·p = ni2
 Por lo que respecta a la conductividad del material, ésta
  aumenta enormemente, así, por ejemplo, introduciendo
  sólo un átomo donador por cada 1000 átomos de silicio, la
  conductividad es 24100 veces mayor que la del silicio
SEMICONDUCTORES
             DOPADOS
   SEMICONDUCTOR
  EXTRÍNSECO TIPO P
Es el que se ha dopado con
elementos trivalentes (Al, B,
Ga o In).
En este caso, las impurezas
aportan una vacante, por lo
que se las denomina
receptoras (de electrones, se
entiende). Ahora bien, el
espacio vacante no es un
hueco como el formado antes
con el salto de un electrón,
sino que tiene un nivel
energético ligeramente
superior al de la banda de
valencia (del orden de 0,01
eV).
SEMICONDUCTOR EXTRÍNSECO
         TIPO P


  En este caso, los
  electrones saltarán a
  las vacantes con
  facilidad dejando
  huecos en la banda de
  valencia en mayor
  número que electrones
  en la banda de
  conducción, de modo
  que ahora son los
  huecos los portadores
  mayoritarios.
SEMICONDUCTOR
      EXTRÍNSECO TIPO P
O Al igual que en el
  caso anterior, el
  incremento del
  número de huecos se
  ve compensado en
  cierta medida por la
  mayor probabilidad
  de recombinación, de
  modo que la ley de
  masas también se
  cumple en este caso:
O p > pi = ni > n, tal que:
  n·p = ni2
BIBLIOGRAFIA
O http://enciclopedia.us.es/index.php/Semic
  onductor
O http://www.e-renovables.es/categoria-
  semiconductores.html
http://www.sc.ehu.es/sbweb/electronica/elec
_basica/tema2/Paginas/Pagina6.htm

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Semiconductores intrínsecos y dopados: clave en electrónica

  • 1.
  • 3. OBJETIVO Al termino de la presentación el lector pueda expresar con sus propias palabras la importancia de los semiconductores intrínsecos y dopados en el mundo de la electrónica y su impacto en la vida del hombre.
  • 4. SEMICONDUCTORES INTRÍNSECOS Un cristal de silicio forma una estructura tetraédrica similar a la del carbono mediante enlaces covalentes entre sus átomos, en la figura representados en el plano por simplicidad. Cuando el cristal se encuentra a temperatura ambiente, algunos electrones pueden, absorbiendo la energía necesaria, saltar a la banda de conducción, dejando el correspondiente hueco en la banda de valencia (1). Las energías requeridas, a temperatura ambiente son de 1,1 y 0,72 eV para el silicio y el germanio respectivamente.
  • 5. Obviamente el proceso inverso también se produce, de modo que los electrones pueden caer desde el estado energético correspondiente a la banda de conducción, a un hueco en la banda de valencia liberando energía. A este fenómeno, se le denomina recombinación. Sucede que, a una determinada temperatura, las velocidades de creación de pares e-h, y de recombinación se igualan, de modo que la concentración global de electrones y huecos permanece invariable.  Siendo n la concentración de electrones (cargas negativas) y p la concentración de huecos (cargas positivas), se cumple que:  ni = n = p  Siendo ni la concentración intrínseca del semiconductor, función exclusiva de la temperatura.  Si se somete el cristal a una diferencia de tensión, se producen dos corrientes eléctricas.
  • 6. SEMICONDUCTORES INTRÍNSECOS Por un lado la debida al movimiento de los electrones libres de la banda de conducción, y por otro, la debida al desplazamiento de los electrones en la banda de valencia, que tenderán a saltar a los huecos próximos (2), originando una corriente de huecos en la dirección contraria al campo eléctrico cuya velocidad y magnitud es muy inferior a la de la banda de conducción.
  • 7. SEMICONDUCTORES DOPADOS El material semiconductor más utilizado es el silicio (Si). Es el elemento número 14 de la tabla periódica, por lo que consta de 14 electrones, de los que 4 se hallan en la última capa. La estructura del Silicio es de cristal tetraédrico en la que cada átomo está enlazado con otros cuatro.
  • 8. SEMICONDUCTORES DOPADOS Si en algunos de estos cristales de silicio sustituimos un átomo de silicio por otro de fósforo, que tiene 5 electrones en su última capa, conseguimos que aumente el número de electrones libres. La carga eléctrica total sigue siendo neutra, pero el número de electrones cuya energía de unión a su átomo es baja aumenta.
  • 9. Para que nos hagamos una idea más clara, imaginemos una estructura cristalina tetraédrica con cuatro electrones en la capa más externa de cada vértice. En algunos de ellos, hay cinco electrones (en los que hemos introducido el fósforo) por lo que uno de ellos sobra, digamos que no tiene espacio. Si en lugar de fósforo usamos Boro, que tiene 3 electrones en la última capa, conseguimos dejar un “hueco” libre que puede ser ocupado por un electrón. Es decir, en la última capa cabrían 4 electrones pero sólo hay 3. Este efecto de añadir impurezas de fósforo o boro, se denomina contaminación o dopaje. Los cristales de silicio dopados con fósforo u otros elementos, de forma que tienen exceso de electrones libres se denominan silicio tipo N. Los dopados con defecto de electrones, con huecos libres, se denominan tipo P.
  • 10. Para continuar con la explicación del dopado tenemos también que referirnos a los semiconductores extrínsecos: SEMICONDUCTORES EXTRÍNSECOS: Si a un semiconductor intrínseco, como el anterior, le añadimos un pequeño porcentaje de impurezas, es decir, elementos trivalentes o pentavalentes, el semiconductor se denomina extrínseco, y se dice que está dopado. Las impurezas pueden o no sustituir al correspondiente átomo del semiconductor intrínseco en su estructura cristalina original.
  • 11. SEMICONDUCTOR EXTRÍNSECO TIPO N Es el que se ha dopado con elementos pentavalentes (As, P o Sb). Al tener éstos elementos 5 electrones en la última capa, resultará que al formarse, como antes, la estructura cristalina, el quinto electrón no estará ligado en ningún enlace covalente, encontrándose, aún sin estar libre, en un nivel energético superior a los cuatro restantes. Si como antes, consideramos el efecto de la temperatura, observaremos que ahora, además de la formación de pares e- h, se liberarán también los electrones no enlazados, ya que la energía necesaria para liberar el electrón excedente es del orden de la centésima parte de la correspondiente a los electrones de los enlaces covalentes (en torno a 0,01 eV).
  • 12. SEMICONDUCTOR EXTRÍNSECO TIPO N  Así, en el semiconductor aparecerá una mayor cantidad de electrones que de huecos; por ello se dice que los electrones son los portadores mayoritarios de la energía eléctrica y puesto que este excedente de electrones procede de las impurezas pentavalentes, a éstas se las llama donadoras.  Aun siendo mayor n que p, la ley de masas se sigue cumpliendo, dado que aunque aparentemente sólo se aumente el número de electrones libres, al hacerlo, se incrementa la probabilidad de recombinación, lo que resulta en un disminución del número de huecos p, es decir:  n > ni = pi > p, tal que: n·p = ni2  Por lo que respecta a la conductividad del material, ésta aumenta enormemente, así, por ejemplo, introduciendo sólo un átomo donador por cada 1000 átomos de silicio, la conductividad es 24100 veces mayor que la del silicio
  • 13. SEMICONDUCTORES DOPADOS SEMICONDUCTOR EXTRÍNSECO TIPO P Es el que se ha dopado con elementos trivalentes (Al, B, Ga o In). En este caso, las impurezas aportan una vacante, por lo que se las denomina receptoras (de electrones, se entiende). Ahora bien, el espacio vacante no es un hueco como el formado antes con el salto de un electrón, sino que tiene un nivel energético ligeramente superior al de la banda de valencia (del orden de 0,01 eV).
  • 14. SEMICONDUCTOR EXTRÍNSECO TIPO P En este caso, los electrones saltarán a las vacantes con facilidad dejando huecos en la banda de valencia en mayor número que electrones en la banda de conducción, de modo que ahora son los huecos los portadores mayoritarios.
  • 15. SEMICONDUCTOR EXTRÍNSECO TIPO P O Al igual que en el caso anterior, el incremento del número de huecos se ve compensado en cierta medida por la mayor probabilidad de recombinación, de modo que la ley de masas también se cumple en este caso: O p > pi = ni > n, tal que: n·p = ni2
  • 16. BIBLIOGRAFIA O http://enciclopedia.us.es/index.php/Semic onductor O http://www.e-renovables.es/categoria- semiconductores.html http://www.sc.ehu.es/sbweb/electronica/elec _basica/tema2/Paginas/Pagina6.htm