El documento describe el proceso de nanosilización de la base del camino perimetral del nuevo Aeropuerto Internacional de la Ciudad de México. Este proceso incluye la elaboración de una mezcla de nanosílice en una planta especializada, la colocación y compactación de la capa base nanosilicada, y la aplicación de un curado para la base nanosilicada. El proceso finaliza con la colocación de una capa de rodadura de asfalto sobre la base nanosilicada.