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LOS SEMICONDUCTORES
       DOPADOS
• En la producción de semiconductores, se
  denomina dopaje al proceso intencional de
  agregar impurezas en un semiconductor
  extremadamente puro (también referido como
  intrínseco) con el fin de cambiar sus propiedades
  eléctricas. Las impurezas utilizadas dependen del
  tipo de semiconductores a dopar. A los
  semiconductores con dopajes ligeros y
  moderados se los conoce como extrínsecos. Un
  semiconductor altamente dopado que actúa más
  como un conductor que como un semiconductor
  es llamado degenerado.
• El número de átomos dopantes necesitados
  para crear una diferencia en las capacidades
  conductoras de un semiconductor es muy
  pequeña. Cuando se agregan un pequeño
  número de átomos dopantes (en el orden de 1
  cada 100.000.000 de átomos) entonces se dice
  que el dopaje es bajo o ligero. Cuando se
  agregan muchos más átomos (en el orden de 1
  cada 10.000 átomos) entonces se dice que el
  dopaje es alto o pesado. Este dopaje pesado se
  representa con la nomenclatura N+ para
  material de tipo N, o P+ para material de tipo P.
• los dopantes más comunes son elementos del
  Grupo III o del Grupo V. Boro, Arsénico, Fósforo,
  y ocasionalmente Galio, son utilizados para
  dopar al Silicio.
TIPOS DE MATERIALES DOPANTES
• TIPO N
• Se llama material tipo N al que posee átomos de
  impurezas que permiten la aparición de
  electrones sin huecos asociados a los mismos.
  Los átomos de este tipo se llaman donantes ya
  que "donan" o entregan electrones. Suelen ser
  de valencia cinco, como el Arsénico y el Fósforo
• De esta forma, no se ha desbalanceado la
  neutralidad eléctrica, ya que el átomo
  introducido al semiconductor es neutro, pero
  posee un electrón no ligado, a diferencia de los
  átomos que conforman la estructura original, por
  lo que la energía necesaria para separarlo del
  átomo será menor que la necesitada para
  romper una ligadura en el cristal de silicio (o del
  semiconductor original).
• Finalmente, existirán más electrones que
  huecos, por lo que los primeros serán los
  portadores mayoritarios y los últimos los
  minoritarios. La cantidad de portadores
  mayoritarios será función directa de la cantidad
  de átomos de impurezas introducidos.
• El siguiente es un ejemplo de dopaje de Silicio
  por el Fósforo (dopaje N). En el caso del
  Fósforo, se dona un electrón.
DOPAJE DE TIPO N
TIPO P
• Se llama así al material que tiene átomos de
  impurezas que permiten la formación de huecos
  sin que aparezcan electrones asociados a los
  mismos, como ocurre al romperse una ligadura.
  Los átomos de este tipo se llaman aceptores, ya
  que "aceptan" o toman un electrón
• Suelen ser de valencia tres, como el Aluminio, el
  Indio o el Galio. Nuevamente, el átomo
  introducido es neutro, por lo que no modificará
  la neutralidad eléctrica del cristal, pero debido a
  que solo tiene tres electrones en su última capa
  de valencia, aparecerá una ligadura rota, que
  tenderá a tomar electrones de los átomos
  próximos, generando finalmente más huecos
  que electrones, por lo que los primeros serán
  los portadores mayoritarios y los segundos los
  minoritarios.
• Al igual que en el material tipo N, la cantidad de
  portadores mayoritarios será función directa de la
  cantidad de átomos de impurezas introducidos.
DOPAJE DE TIPO P
DOPAJE EN CONDUCTORES ORGANICOS
• Los polímeros conductores pueden ser dopados al
  agregar reactivos químicos que oxiden (o algunas
  veces reduzcan) el sistema, para ceder electrones a
  las órbitas conductoras dentro de un sistema
  potencialmente conductor.
• Existen dos formas principales de dopar un polímero
  conductor, ambas mediante un proceso de
  reducción-oxidación
• En el primer método, dopado químico, se expone un
  polímero, como la melanina (típicamente una
  película delgada), a un oxidante (típicamente yodo o
  bromo) o a un agente reductor (típicamente se
  utilizan metales alcalinos, aunque esta exposición es
  bastante menos común).
• El segundo método es el dopaje electroquímico, en la
  cual un electrodo de trabajo, revestido con un
  polímero, es suspendido en una solución
  electrolítica, en la cual el polímero es insoluble, junto
  al electrodo opuesto, separados ambos.
• Se crea una diferencia de potencial eléctrico entre los
  electrodos, la cual hace que una carga (y su
  correspondiente ion del electrolito) entren en el
  polímero en la forma de electrones agregados (dopaje
  tipo N) o salgan del polímero (dopaje tipo P), según la
  polarización utilizada.
• La razón por la cual el dopaje tipo N es mucho menos
  común es que la atmósfera de la tierra, la cual es rica
  en oxígeno, crea un ambiente oxidante. Un polímero
  tipo N rico en electrones reaccionaría inmediatamente
  con el oxígeno ambiental y se desdoparía (o reoxidaría)
  nuevamente el polímero, volviendo a su estado
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Los semiconductores dopados

  • 1. LOS SEMICONDUCTORES DOPADOS • En la producción de semiconductores, se denomina dopaje al proceso intencional de agregar impurezas en un semiconductor extremadamente puro (también referido como intrínseco) con el fin de cambiar sus propiedades eléctricas. Las impurezas utilizadas dependen del tipo de semiconductores a dopar. A los semiconductores con dopajes ligeros y moderados se los conoce como extrínsecos. Un semiconductor altamente dopado que actúa más como un conductor que como un semiconductor es llamado degenerado.
  • 2. • El número de átomos dopantes necesitados para crear una diferencia en las capacidades conductoras de un semiconductor es muy pequeña. Cuando se agregan un pequeño número de átomos dopantes (en el orden de 1 cada 100.000.000 de átomos) entonces se dice que el dopaje es bajo o ligero. Cuando se agregan muchos más átomos (en el orden de 1 cada 10.000 átomos) entonces se dice que el dopaje es alto o pesado. Este dopaje pesado se representa con la nomenclatura N+ para material de tipo N, o P+ para material de tipo P.
  • 3. • los dopantes más comunes son elementos del Grupo III o del Grupo V. Boro, Arsénico, Fósforo, y ocasionalmente Galio, son utilizados para dopar al Silicio.
  • 4. TIPOS DE MATERIALES DOPANTES • TIPO N • Se llama material tipo N al que posee átomos de impurezas que permiten la aparición de electrones sin huecos asociados a los mismos. Los átomos de este tipo se llaman donantes ya que "donan" o entregan electrones. Suelen ser de valencia cinco, como el Arsénico y el Fósforo
  • 5. • De esta forma, no se ha desbalanceado la neutralidad eléctrica, ya que el átomo introducido al semiconductor es neutro, pero posee un electrón no ligado, a diferencia de los átomos que conforman la estructura original, por lo que la energía necesaria para separarlo del átomo será menor que la necesitada para romper una ligadura en el cristal de silicio (o del semiconductor original).
  • 6. • Finalmente, existirán más electrones que huecos, por lo que los primeros serán los portadores mayoritarios y los últimos los minoritarios. La cantidad de portadores mayoritarios será función directa de la cantidad de átomos de impurezas introducidos. • El siguiente es un ejemplo de dopaje de Silicio por el Fósforo (dopaje N). En el caso del Fósforo, se dona un electrón.
  • 8. TIPO P • Se llama así al material que tiene átomos de impurezas que permiten la formación de huecos sin que aparezcan electrones asociados a los mismos, como ocurre al romperse una ligadura. Los átomos de este tipo se llaman aceptores, ya que "aceptan" o toman un electrón
  • 9. • Suelen ser de valencia tres, como el Aluminio, el Indio o el Galio. Nuevamente, el átomo introducido es neutro, por lo que no modificará la neutralidad eléctrica del cristal, pero debido a que solo tiene tres electrones en su última capa de valencia, aparecerá una ligadura rota, que tenderá a tomar electrones de los átomos próximos, generando finalmente más huecos que electrones, por lo que los primeros serán los portadores mayoritarios y los segundos los minoritarios. • Al igual que en el material tipo N, la cantidad de portadores mayoritarios será función directa de la cantidad de átomos de impurezas introducidos.
  • 11. DOPAJE EN CONDUCTORES ORGANICOS • Los polímeros conductores pueden ser dopados al agregar reactivos químicos que oxiden (o algunas veces reduzcan) el sistema, para ceder electrones a las órbitas conductoras dentro de un sistema potencialmente conductor. • Existen dos formas principales de dopar un polímero conductor, ambas mediante un proceso de reducción-oxidación
  • 12. • En el primer método, dopado químico, se expone un polímero, como la melanina (típicamente una película delgada), a un oxidante (típicamente yodo o bromo) o a un agente reductor (típicamente se utilizan metales alcalinos, aunque esta exposición es bastante menos común). • El segundo método es el dopaje electroquímico, en la cual un electrodo de trabajo, revestido con un polímero, es suspendido en una solución electrolítica, en la cual el polímero es insoluble, junto al electrodo opuesto, separados ambos.
  • 13. • Se crea una diferencia de potencial eléctrico entre los electrodos, la cual hace que una carga (y su correspondiente ion del electrolito) entren en el polímero en la forma de electrones agregados (dopaje tipo N) o salgan del polímero (dopaje tipo P), según la polarización utilizada. • La razón por la cual el dopaje tipo N es mucho menos común es que la atmósfera de la tierra, la cual es rica en oxígeno, crea un ambiente oxidante. Un polímero tipo N rico en electrones reaccionaría inmediatamente con el oxígeno ambiental y se desdoparía (o reoxidaría) nuevamente el polímero, volviendo a su estado natural.