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TRANSISTORES
   Zonas de funcionamiento del transistor bipolar:
   1. ACTIVA DIRECTA: El transistor sólo amplifica en
    esta zona, y se comporta como una fuente de corriente
    constante controlada por la intensidad de base
    (ganancia de corriente).Este parámetro lo suele
    proporcionar el fabricante dandonos un máximo y un
    mínimo para una corriente de colector dada (Ic);
    además de esto, suele presentar una variación acusada
    con la temperatura y con la corriente de colector, por lo
    que en principio no podemos conocer su valor.
    Algunos polímetros son capaces de medir este
    parámetro pero esta medida hay que tomarla
    solamente como una indicación, ya que el polímetro
    mide este parámetro para un valor de corriente de
    colector distinta a la que circulará por el BJT una vez en
    el circuito.
   2. SATURACIÓN: En esta zona el transistor es
    utilizado para aplicaciones de conmutación (potencia,
    circuitos digitales, etc.), y lo podemos considerar como
    un cortocircuito entre el colector y el emisor.                 El transistor PNP es complemento del NPN de forma
                                                                     que todos los voltajes y corrientes son opuestos a los
   3. CORTE: el transistor es utilizado para aplicaciones           del transistor NPN.
    de conmutación (potencia, circuitos digitales, etc.), y
    podemos considerar las corrientes que lo atraviesan
    practicamente nulas (y en especial Ic).                         Para encontrar el circuito PNP complementario:
   3. ACTIVA INVERSA: Esta zona se puede considerar                1. Se sustituye el transistor NPN por un PNP.
    como carente de interés.
                                                                    2. Se invierten todos los voltajes y corrientes.
   El JFET de canal n está constituido por una barra de silicio      Por ello, en el JFET intervienen como parámetros: ID (intensidad
    de material semiconductor de tipo n con dos regiones               drain o drenador a source o fuente), VGS (tensión gate o puerta a
    (islas) de material tipo p situadas a ambos lados.                 source o fuente) y VDS (tensión drain o drenador a source o
                                                                       fuente). Se definen cuatro regiones básicas de operación: corte,
   Es un elemento tri-terminal cuyos terminales se                    lineal, saturación y ruptura. A continuación se realiza una
    denominan drenador (drain), fuente (source) y puerta               descripción breve de cada una de estas regiones para el caso de
    (gate).                                                            un NJFET.
   En la figura 1.10.a se describe un esquema de un JFET de
    canal n, en la 1.10.b el símbolo de este dispositivo y en la
    1.10.c el símbolo de un JFET de canal P
   La polarización de un JFET exige que las uniones p-n estén
    inversamente polarizadas.
   En un JFET de canal n, o NJFET, la tensión de drenador
    debe ser mayor que la de la fuente para que exista un flujo
    de corriente a través de canal.
   Además, la puerta debe tener una tensión más negativa que
    la fuente para que la unión p-n se encuentre polarizado
    inversamente. Ambas polarizaciones se indican en la figura
    1.11.
   Las curvas de características eléctricas de un JFET son muy
    similares a las curvas de los transistores bipolares. Sin
    embargo, los JFET son dispositivos controlados por tensión
    a diferencia de los bipolares que son dispositivos
    controlados por corriente.
   MOSFET significa "FET de Metal Oxido Semiconductor" o FET de compuerta aislada

   Es un tipo especial de transistor FET que tiene una versión NPN y otra PNP.


   El NPN es llamado MOSFET de canal N y el PNP es llamado MOSFET de canal P.

   Una delgada capa de material aislante formada de dióxido de silicio (SiO2) (también llamada "sílice" o "sílica") es colocada del
    lado del semiconductor y una capa de metal es colocada del lado de la compuerta (GATE) (ver la figura)

   En el MOSFET de canal N la parte "N" está conectado a la fuente (source) y al drenaje (drain)
   En el MOSFET de canal P la parte "P" está conectado a la fuente (source) y al drenaje (drain)




   En los transistores bipolares la corriente que circula por el colector es controlada por la corriente que circula por la base. Sin
    embargo en el caso de los transistores FET, la corriente de salida es controlada por una tensión de entrada (un campo eléctrico).
    En este caso no existe corriente de entrada.


   Los transistores MOSFET se pueden dañar con facilidad y hay que manipularlos con cuidado. Debido a que la capa de óxido es
    muy delgada, se puede destruir con facilidad si hay alta tensión o hay electricidad estática.
   Los fototransistores se construyen con silicio o germanio, similarmente a cualquier tipo
    de transistor bipolar. Existen tanto fototransistores NPN como PNP. Debido a que la
    radiación es la que dispara la base del transistor, y no una corriente aplicada
    eléctricamente, usualmente la patilla correspondiente a la base no se incluye en el
    transistor. El método de construcción es el de difusión. Este consiste en que se utiliza
    silicio o germanio, así como gases, impurezas o dopantes. Por medio de la difusión, los
    gases dopantes penetran la superficie sólida del silicio. Sobre una superficie sobre la cual
    ya ha ocurrido la difusión, se pueden realizar difusiones posteriores, creando capas de
    dopantes en el material. La parte exterior del fototransistor está hecha de un material
    llamado epoxy, que es una resina que permite el ingreso de radiación hacia la base del
    transistor.

    En la figura 10 se puede observar el aspecto físico de un fototransistor.
 http://www.webelectronica.com.ar/news10/nota014/o
  ptoelectronica2.htm
 http://www.unicrom.com/Tut_Caracteristicas_electric
  as_JFET.asp
 http://html.rincondelvago.com/diodos-y-
  transistores.html

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Transistores

  • 2. Zonas de funcionamiento del transistor bipolar:  1. ACTIVA DIRECTA: El transistor sólo amplifica en esta zona, y se comporta como una fuente de corriente constante controlada por la intensidad de base (ganancia de corriente).Este parámetro lo suele proporcionar el fabricante dandonos un máximo y un mínimo para una corriente de colector dada (Ic); además de esto, suele presentar una variación acusada con la temperatura y con la corriente de colector, por lo que en principio no podemos conocer su valor. Algunos polímetros son capaces de medir este parámetro pero esta medida hay que tomarla solamente como una indicación, ya que el polímetro mide este parámetro para un valor de corriente de colector distinta a la que circulará por el BJT una vez en el circuito.  2. SATURACIÓN: En esta zona el transistor es utilizado para aplicaciones de conmutación (potencia, circuitos digitales, etc.), y lo podemos considerar como un cortocircuito entre el colector y el emisor.  El transistor PNP es complemento del NPN de forma que todos los voltajes y corrientes son opuestos a los  3. CORTE: el transistor es utilizado para aplicaciones del transistor NPN. de conmutación (potencia, circuitos digitales, etc.), y podemos considerar las corrientes que lo atraviesan practicamente nulas (y en especial Ic).  Para encontrar el circuito PNP complementario:  3. ACTIVA INVERSA: Esta zona se puede considerar  1. Se sustituye el transistor NPN por un PNP. como carente de interés.  2. Se invierten todos los voltajes y corrientes.
  • 3. El JFET de canal n está constituido por una barra de silicio  Por ello, en el JFET intervienen como parámetros: ID (intensidad de material semiconductor de tipo n con dos regiones drain o drenador a source o fuente), VGS (tensión gate o puerta a (islas) de material tipo p situadas a ambos lados. source o fuente) y VDS (tensión drain o drenador a source o fuente). Se definen cuatro regiones básicas de operación: corte,  Es un elemento tri-terminal cuyos terminales se lineal, saturación y ruptura. A continuación se realiza una denominan drenador (drain), fuente (source) y puerta descripción breve de cada una de estas regiones para el caso de (gate). un NJFET.  En la figura 1.10.a se describe un esquema de un JFET de canal n, en la 1.10.b el símbolo de este dispositivo y en la 1.10.c el símbolo de un JFET de canal P  La polarización de un JFET exige que las uniones p-n estén inversamente polarizadas.  En un JFET de canal n, o NJFET, la tensión de drenador debe ser mayor que la de la fuente para que exista un flujo de corriente a través de canal.  Además, la puerta debe tener una tensión más negativa que la fuente para que la unión p-n se encuentre polarizado inversamente. Ambas polarizaciones se indican en la figura 1.11.  Las curvas de características eléctricas de un JFET son muy similares a las curvas de los transistores bipolares. Sin embargo, los JFET son dispositivos controlados por tensión a diferencia de los bipolares que son dispositivos controlados por corriente.
  • 4. MOSFET significa "FET de Metal Oxido Semiconductor" o FET de compuerta aislada  Es un tipo especial de transistor FET que tiene una versión NPN y otra PNP.  El NPN es llamado MOSFET de canal N y el PNP es llamado MOSFET de canal P.  Una delgada capa de material aislante formada de dióxido de silicio (SiO2) (también llamada "sílice" o "sílica") es colocada del lado del semiconductor y una capa de metal es colocada del lado de la compuerta (GATE) (ver la figura)  En el MOSFET de canal N la parte "N" está conectado a la fuente (source) y al drenaje (drain)  En el MOSFET de canal P la parte "P" está conectado a la fuente (source) y al drenaje (drain)  En los transistores bipolares la corriente que circula por el colector es controlada por la corriente que circula por la base. Sin embargo en el caso de los transistores FET, la corriente de salida es controlada por una tensión de entrada (un campo eléctrico). En este caso no existe corriente de entrada.  Los transistores MOSFET se pueden dañar con facilidad y hay que manipularlos con cuidado. Debido a que la capa de óxido es muy delgada, se puede destruir con facilidad si hay alta tensión o hay electricidad estática.
  • 5. Los fototransistores se construyen con silicio o germanio, similarmente a cualquier tipo de transistor bipolar. Existen tanto fototransistores NPN como PNP. Debido a que la radiación es la que dispara la base del transistor, y no una corriente aplicada eléctricamente, usualmente la patilla correspondiente a la base no se incluye en el transistor. El método de construcción es el de difusión. Este consiste en que se utiliza silicio o germanio, así como gases, impurezas o dopantes. Por medio de la difusión, los gases dopantes penetran la superficie sólida del silicio. Sobre una superficie sobre la cual ya ha ocurrido la difusión, se pueden realizar difusiones posteriores, creando capas de dopantes en el material. La parte exterior del fototransistor está hecha de un material llamado epoxy, que es una resina que permite el ingreso de radiación hacia la base del transistor. En la figura 10 se puede observar el aspecto físico de un fototransistor.
  • 6.  http://www.webelectronica.com.ar/news10/nota014/o ptoelectronica2.htm  http://www.unicrom.com/Tut_Caracteristicas_electric as_JFET.asp  http://html.rincondelvago.com/diodos-y- transistores.html