3. METODO DE PREPARACION.
• Deposicion quimica desde fase vapor activada por plasma (PECVD)
•Deposicion quimica desde fase vapor inducida por haces de iones (IBICVD)
Consiste en la reaccion de uno o varios precursores en forma de gas o vapor para dar un
producto solido en forma de capa
4. REACTOR PROCESO CVD
Precursores en forma
de gas o vapor
Controlar proceso deposicion es necesario
trabajar en condiciones de vacio
Presion base =10-6 torr
Presion trabajo = 10-3 torr
5. MECANISMO SINTESIS POR CVD
1.
2.
3.
4.
5.
6.
Transporte moléculas por flujos de gases de entrada
Difusión y adsorción de dichas moléculas sobre la superficie
Reacción sobre la superficie al aplicar un plasma gaseoso o un haz de iones
Nucleación y crecimiento de la capa
Desorción de los productos volátiles (subproductos)
Transporte subproductos al exterior a través del sistema de vacio.
6. APLICACIONES FOTOELECTRICAS
Fotocatalizador la forma mas ampliamente usada del TiO2 es como
material en forma de polvo.
Sin embargo, el uso practico de catalizadores en forma de polvo en medio
liquido es problemático dado su posterior separación y recuperación
representan unas dificultades y costos que no aconsejan el uso de esta
tecnología.
Por esta razón se ha optado por desarrollar fotocatalizadores de TiO2 en
forma de capa, los cuales, entre otras aplicaciones, se usan como
fotoanodos en celdas fotoeléctricas.
7. Las placas solares, placas fotovoltaicas, son un conjunto de celdas fotoeléctricas
unidas en una estructura que en su conjunto conforman una placa solar.
Esta placa solar produce la energía a través del efecto fotoeléctrico que hace que
absorban fotones de luz y emitan electrones. Cuando estos electrones libres son
capturados, el resultado es una corriente eléctrica que puede ser utilizada como
electricidad.
8. Producción de Hidrogeno mediante fotoelectrolisis usando películas de TiO2
Fotoelectrolisis del agua usando electrodo de Pt como cátodo y un electrodo de
película de TiO2 como foto ánodo.