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SEMICONDUCTORES INTRÍNSECOS Y
SEMICONDUCTORES DOPADOS




  Física electrónica
¿QUE ES UN SEMICONDUCTOR
INTRÍNSECO?
   Se dice que un semiconductor es “intrínseco” cuando se encuentra en
    estado puro, o sea, que no contiene ninguna impureza, ni átomos de
    otro tipo dentro de su estructura. En ese caso, la cantidad de huecos
    que dejan los electrones en la banda de valencia al atravesar la
    banda prohibida será igual a la cantidad de electrones libres que se
    encuentran presentes en la banda de conducción.
SEMICONDUCTORES INTRÍNSECOS

                     Es un cristal de silicio o
                      Germanio que forma una
                      estructura tetraédrica similar a
                      la del carbono mediante enlaces
                      covalentes entre sus átomos, en
                      la figura representados en el
                      plano por simplicidad. Cuando
                      el cristal se encuentra a
                      temperatura ambiente algunos
                      electrones pueden absorber la
                      energía necesaria para saltar a
                      la banda de conducción dejando
                      el correspondiente hueco en la
                      banda de valencia(1). Las
                      energías      requeridas,        a
                      temperatura ambiente, son de
                      0,7eV y 0,3eV para el silicio y el
                      germanio respectivamente.
¿QUE ES UN SEMICONDUCTOR DOPADO?
   En la producción de semiconductores, se denomina dopaje al proceso
    intencional de agregar impurezas en un semiconductor
    extremadamente puro (también referido como intrínseco) con el fin de
    cambiar sus propiedades eléctricas. Las impurezas utilizadas
    dependen del tipo de semiconductores a dopar. A los semiconductores
    con dopajes ligeros y moderados se los conoce como extrínsecos. Un
    semiconductor altamente dopado que actúa más como un conductor
    que como un semiconductor es llamado degenerado.
SEMICONDUCTORES DOPADOS
   El número de átomos dopantes necesitados para crear una
    diferencia en las capacidades conductoras de un
    semiconductor es muy pequeño. Cuando se agregan un
    pequeño número de átomos dopantes (en el orden de 1 cada
    100.000.000 de átomos) entonces se dice que el dopaje es
    bajo o ligero.

    Cuando se agregan muchos más átomos (en el orden de 1
    cada 10.000 átomos) entonces se dice que el dopaje es alto o
    pesado. Este dopaje pesado se representa con la
    nomenclatura N+ para material de tipo N, oP+ para
    material de tipo P.
MATERIALES DOPANTES TIPO P
   Se llama así al material que tiene átomos de
    impurezas que permiten la formación de huecos sin
    que aparezcan electrones asociados a los mismos,
    como ocurre al romperse una ligadura. Los átomos de
    este tipo se llaman aceptores, ya que "aceptan" o
    toman un electrón. Suelen ser de valencia tres, como
    el Aluminio, el Indio o el Galio. Nuevamente, el átomo
    introducido es neutro, por lo que no modificará la
    neutralidad eléctrica del cristal, pero debido a que
    solo tiene tres electrones en su última capa de
    valencia, aparecerá una ligadura rota, que tenderá a
    tomar electrones de los átomos próximos, generando
    finalmente más huecos que electrones, por lo que los
    primeros serán los portadores mayoritarios y los
    segundos los minoritarios.
MATERIALES DOPANTES TIPO P
   El siguiente es un ejemplo de dopaje de Silicio por
    el Boro (P dopaje). En el caso del boro le falta un
    electrón y, por tanto, es donado un hueco de
    electrón.
MATERIALES DOPANTES TIPO N
   Se llama material tipo N al que posee átomos de impurezas
    que permiten la aparición de electrones sin huecos
    asociados a los mismos. Los átomos de este tipo se llaman
    donantes ya que "donan" o entregan electrones. Suelen ser
    de valencia cinco, como el Arsénico y el Fósforo. De esta
    forma, no se ha desbalanceado la neutralidad eléctrica, ya
    que el átomo introducido al semiconductor es neutro, pero
    posee un electrón no ligado, a diferencia de los átomos que
    conforman la estructura original, por lo que la energía
    necesaria para separar lo del átomo será menor que la
    necesitada para romper una ligadura en el cristal de silicio
    (o del semiconductor original).
MATERIALES DOPANTES TIPO N
   El siguiente es un ejemplo de dopaje de Silicio por
    el Fósforo (dopaje N). En el caso del Fósforo, se
    dona un electrón.
FUENTES DE INFORMACIÓN
Electrónicas:
 http://www.uv.es/candid/docencia/ed_tema-02.pdf

 http://es.wikipedia.org/wiki/Dopaje_(semiconduct
  ores)
 http://www.ifent.org/lecciones/semiconductor/dop
  ado.asp

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  • 1. UNIVERSIDAD PRIVADA TELESUP SEMICONDUCTORES INTRÍNSECOS Y SEMICONDUCTORES DOPADOS Física electrónica
  • 2. ¿QUE ES UN SEMICONDUCTOR INTRÍNSECO?  Se dice que un semiconductor es “intrínseco” cuando se encuentra en estado puro, o sea, que no contiene ninguna impureza, ni átomos de otro tipo dentro de su estructura. En ese caso, la cantidad de huecos que dejan los electrones en la banda de valencia al atravesar la banda prohibida será igual a la cantidad de electrones libres que se encuentran presentes en la banda de conducción.
  • 3. SEMICONDUCTORES INTRÍNSECOS  Es un cristal de silicio o Germanio que forma una estructura tetraédrica similar a la del carbono mediante enlaces covalentes entre sus átomos, en la figura representados en el plano por simplicidad. Cuando el cristal se encuentra a temperatura ambiente algunos electrones pueden absorber la energía necesaria para saltar a la banda de conducción dejando el correspondiente hueco en la banda de valencia(1). Las energías requeridas, a temperatura ambiente, son de 0,7eV y 0,3eV para el silicio y el germanio respectivamente.
  • 4. ¿QUE ES UN SEMICONDUCTOR DOPADO?  En la producción de semiconductores, se denomina dopaje al proceso intencional de agregar impurezas en un semiconductor extremadamente puro (también referido como intrínseco) con el fin de cambiar sus propiedades eléctricas. Las impurezas utilizadas dependen del tipo de semiconductores a dopar. A los semiconductores con dopajes ligeros y moderados se los conoce como extrínsecos. Un semiconductor altamente dopado que actúa más como un conductor que como un semiconductor es llamado degenerado.
  • 5. SEMICONDUCTORES DOPADOS  El número de átomos dopantes necesitados para crear una diferencia en las capacidades conductoras de un semiconductor es muy pequeño. Cuando se agregan un pequeño número de átomos dopantes (en el orden de 1 cada 100.000.000 de átomos) entonces se dice que el dopaje es bajo o ligero.  Cuando se agregan muchos más átomos (en el orden de 1 cada 10.000 átomos) entonces se dice que el dopaje es alto o pesado. Este dopaje pesado se representa con la nomenclatura N+ para material de tipo N, oP+ para material de tipo P.
  • 6. MATERIALES DOPANTES TIPO P  Se llama así al material que tiene átomos de impurezas que permiten la formación de huecos sin que aparezcan electrones asociados a los mismos, como ocurre al romperse una ligadura. Los átomos de este tipo se llaman aceptores, ya que "aceptan" o toman un electrón. Suelen ser de valencia tres, como el Aluminio, el Indio o el Galio. Nuevamente, el átomo introducido es neutro, por lo que no modificará la neutralidad eléctrica del cristal, pero debido a que solo tiene tres electrones en su última capa de valencia, aparecerá una ligadura rota, que tenderá a tomar electrones de los átomos próximos, generando finalmente más huecos que electrones, por lo que los primeros serán los portadores mayoritarios y los segundos los minoritarios.
  • 7. MATERIALES DOPANTES TIPO P  El siguiente es un ejemplo de dopaje de Silicio por el Boro (P dopaje). En el caso del boro le falta un electrón y, por tanto, es donado un hueco de electrón.
  • 8. MATERIALES DOPANTES TIPO N  Se llama material tipo N al que posee átomos de impurezas que permiten la aparición de electrones sin huecos asociados a los mismos. Los átomos de este tipo se llaman donantes ya que "donan" o entregan electrones. Suelen ser de valencia cinco, como el Arsénico y el Fósforo. De esta forma, no se ha desbalanceado la neutralidad eléctrica, ya que el átomo introducido al semiconductor es neutro, pero posee un electrón no ligado, a diferencia de los átomos que conforman la estructura original, por lo que la energía necesaria para separar lo del átomo será menor que la necesitada para romper una ligadura en el cristal de silicio (o del semiconductor original).
  • 9. MATERIALES DOPANTES TIPO N  El siguiente es un ejemplo de dopaje de Silicio por el Fósforo (dopaje N). En el caso del Fósforo, se dona un electrón.
  • 10. FUENTES DE INFORMACIÓN Electrónicas:  http://www.uv.es/candid/docencia/ed_tema-02.pdf  http://es.wikipedia.org/wiki/Dopaje_(semiconduct ores)  http://www.ifent.org/lecciones/semiconductor/dop ado.asp