Este documento describe el método de deposición química desde la fase de vapor (CVD) para producir películas delgadas de TiO2. El proceso CVD involucra la reacción de precursores gaseosos para depositar un producto sólido en forma de capa. Las películas de TiO2 producidas por CVD se pueden usar como fotocatalizadores y fotoánodos para aplicaciones fotoeléctricas como celdas solares y producción de hidrógeno mediante fotoelectrólisis.