SEMICONDUCTORES
INTRODUCCIÓN. MATERIALES CONDUCTORES 
Todos los cuerpos o elementos químicos existentes en la 
naturaleza poseen características diferentes, agrupadas todas 
en la denominada “Tabla de Elementos Químicos”. Desde el 
punto de vista eléctrico, todos los cuerpos simples o compuestos 
formados por esos elementos se pueden dividir en tres amplias 
categorías: 
 Conductores 
 Aislantes 
 Semiconductores
MATERIALES CONDUCTORES 
 En la categoría “conductores” se encuentran 
agrupados todos los metales que en mayor o 
menor medida conducen o permiten el paso 
de la corriente eléctrica por sus cuerpos. 
• Los conductores de cobre 
son los materiales más 
utilizados en los circuitos 
eléctricos por la baja 
resistencia que presentan 
al paso de la corriente.
SEMICONDUCTORES "INTRÍNSECOS" 
 Se dice que un semiconductor es “intrínseco” cuando se 
encuentra en estado puro, o sea, que no contiene ninguna 
impureza, ni átomos de otro tipo dentro de su estructura. En ese 
caso, la cantidad de huecos que dejan los electrones en la 
banda de valencia al atravesar la banda prohibida será igual a 
la cantidad de electrones libres que se encuentran presentes en 
la banda de conducción.
SEMICONDUCTORES "INTRÍNSECOS" 
 Cuando se eleva la temperatura de la red cristalina de un 
elemento semiconductor intrínseco, algunos de los enlaces 
covalentes se rompen y varios electrones pertenecientes a la 
banda de valencia se liberan de la atracción que ejerce el 
núcleo del átomo sobre los mismos. Esos electrones libres saltan a 
la banda de conducción y allí funcionan como “electrones de 
conducción”, pudiéndose desplazar libremente de un átomo a 
otro dentro de la propia estructura cristalina, siempre que el 
elemento semiconductor se estimule con el paso de una 
corriente eléctrica.
SEMICONDUCTORES "INTRÍNSECOS" 
COMO SE PUEDE OBSERVAR EN LA ILUSTRACIÓN, EN EL CASO DE LOS 
SEMICONDUCTORES EL ESPACIO CORRESPONDIENTE A LA BANDA 
PROHIBIDA ES MUCHO MÁS ESTRECHO EN COMPARACIÓN CON LOS 
MATERIALES AISLANTES.
SEMICONDUCTORES "INTRÍNSECOS" 
ESTRUCTURA CRISTALINA DE UN SEMICONDUCTOR INTRÍNSECO, 
COMPUESTA SOLAMENTE POR ÁTOMOS DE SILICIO (SI) QUE FORMAN 
UNA CELOSÍA. COMO SE PUEDE OBSERVAR EN LA ILUSTRACIÓN, LOS 
ÁTOMOS DE SILICIO (QUE SÓLO POSEEN CUATRO ELECTRONES EN LA 
ÚLTIMA ÓRBITA O BANDA DE VALENCIA), SE UNEN FORMANDO ENLACES 
COVALENTE PARA COMPLETAR OCHO ELECTRONES Y CREAR ASÍ UN 
CUERPO SÓLIDO SEMICONDUCTOR. EN ESAS CONDICIONES EL CRISTAL 
DE SILICIO SE COMPORTARÁ IGUAL QUE SI FUERA UN CUERPO AISLANTE.
LOS SEMICONDUCTORES DOPADOS 
 El dopaje consiste en sustituir 
algunos átomos de silicio por 
átomos de otros elementos. A 
estos últimos se les conoce 
con el nombre de impurezas. 
Dependiendo del tipo de 
impureza con el que se dope 
al semiconductor puro o 
intrínseco aparecen dos 
clases de semiconductores.(5) 
 Semiconductor tipo P 
 Semiconductor tipo N 
Sentido del movimiento de un electrón y 
un hueco en el silicio.
CASO 1 DOPADO DE UN SEMICONDUCTOR 
 Impurezas de valencia 5 
(Arsénico, Antimonio, 
Fósforo). Tenemos un cristal 
de Silicio dopado con 
átomos de valencia 5 
 Los átomo de valencia 5 
tienen un electrón de más, 
así con una temperatura 
no muy elevada (a 
temperatura ambiente por 
ejemplo), el 5º electrón se 
hace electrón libre. Esto es, 
como solo se pueden 
tener 8 electrones en la 
órbita de valencia, el 
átomo pentavalente 
suelta un electrón que será 
libre.
CASO 2 
 Impurezas de valencia 3 (Aluminio, Boro, 
Galio). Tenemos un cristal de Silicio 
dopado con átomos de valencia 3. 
 Los átomo de valencia 3 tienen un 
electrón de menos, entonces como nos 
falta un electrón tenemos un hueco. 
Esto es, ese átomo trivalente tiene 7 
electrones en la orbita de valencia. Al 
átomo de valencia 3 se le llama "átomo 
trivalente" o "Aceptor". 
 A estas impurezas se les llama 
"Impurezas Aceptoras". Hay tantos 
huecos como impurezas de valencia 3 y 
sigue habiendo huecos de generación 
térmica (muy pocos). El número de 
huecos se llama p (huecos/m3). (7)
ELEMENTOS DOPANTES 
 Para los semiconductores 
del Grupo IV como Silicio, 
Germanio y Carburo de 
silicio, los dopantes más 
comunes son elementos 
del Grupo III o del Grupo 
V. Boro, Arsénico, Fósforo, 
y ocasionalmente Galio, 
son utilizados para dopar 
al Silicio. 
Ejemplo de dopaje de Silicio por el 
Fósforo (dopaje Tipo N). En el caso 
del Fósforo, se dona un electrón
EJEMPLO DE DOPAJE «TIPO P» 
 El siguiente es un 
ejemplo de dopaje de 
Silicio por el Boro (P 
dopaje). En el caso del 
boro le falta un 
electrón y, por tanto, es 
donado un hueco de 
electrón.La cantidad 
de portadores 
mayoritarios será 
función directa de la 
cantidad de átomos de 
impurezas introducidos. 
En el doping tipo p, la creación de 
agujeros, es alcanzada mediante la 
incorporación en el silicio de átomos 
con 3 electrones de valencia, 
generalmente se utiliza boro.(9)
CONCLUSIONES 
En la producción de 
semiconductores, se 
denomina dopaje al 
proceso intencional de 
agregar impurezas en un 
semiconductor 
extremadamente puro 
(también referido como 
intrínseco) con el fin de 
cambiar sus propiedades 
eléctricas. Las impurezas 
utilizadas dependen del 
tipo de semiconductores 
a dopar. 
Un semiconductor es 
“intrínseco” cuando se 
encuentra en estado puro, 
o sea, que no contiene 
ninguna impureza, ni 
átomos de otro tipo dentro 
de su estructura. En ese 
caso, la cantidad de 
huecos que dejan los 
electrones en la banda de 
valencia al atravesar la 
banda prohibida será igual 
a la cantidad de 
electrones libres que se 
encuentran presentes en la 
banda de conducción
 http://www.asifunciona.com/fisica/ke_semiconductor/ke_se 
miconductor_5.htm 
 http://www.ifent.org/lecciones/semiconductor/dopado.asp 
 http://www.sc.ehu.es/sbweb/electronica/elec_basica/tema2 
/Paginas/Pagina5.htm 
 http://www.sc.ehu.es/sbweb/electronica/elec_basica/tema2 
/Paginas/Pagina5.htm 
 http://es.wikipedia.org/wiki/Dopaje_(semiconductores) 
 http://ecotecnologias.wordpress.com/tag/celdas-solares/

Semiconductores

  • 1.
  • 2.
    INTRODUCCIÓN. MATERIALES CONDUCTORES Todos los cuerpos o elementos químicos existentes en la naturaleza poseen características diferentes, agrupadas todas en la denominada “Tabla de Elementos Químicos”. Desde el punto de vista eléctrico, todos los cuerpos simples o compuestos formados por esos elementos se pueden dividir en tres amplias categorías:  Conductores  Aislantes  Semiconductores
  • 3.
    MATERIALES CONDUCTORES En la categoría “conductores” se encuentran agrupados todos los metales que en mayor o menor medida conducen o permiten el paso de la corriente eléctrica por sus cuerpos. • Los conductores de cobre son los materiales más utilizados en los circuitos eléctricos por la baja resistencia que presentan al paso de la corriente.
  • 4.
    SEMICONDUCTORES "INTRÍNSECOS" Se dice que un semiconductor es “intrínseco” cuando se encuentra en estado puro, o sea, que no contiene ninguna impureza, ni átomos de otro tipo dentro de su estructura. En ese caso, la cantidad de huecos que dejan los electrones en la banda de valencia al atravesar la banda prohibida será igual a la cantidad de electrones libres que se encuentran presentes en la banda de conducción.
  • 5.
    SEMICONDUCTORES "INTRÍNSECOS" Cuando se eleva la temperatura de la red cristalina de un elemento semiconductor intrínseco, algunos de los enlaces covalentes se rompen y varios electrones pertenecientes a la banda de valencia se liberan de la atracción que ejerce el núcleo del átomo sobre los mismos. Esos electrones libres saltan a la banda de conducción y allí funcionan como “electrones de conducción”, pudiéndose desplazar libremente de un átomo a otro dentro de la propia estructura cristalina, siempre que el elemento semiconductor se estimule con el paso de una corriente eléctrica.
  • 6.
    SEMICONDUCTORES "INTRÍNSECOS" COMOSE PUEDE OBSERVAR EN LA ILUSTRACIÓN, EN EL CASO DE LOS SEMICONDUCTORES EL ESPACIO CORRESPONDIENTE A LA BANDA PROHIBIDA ES MUCHO MÁS ESTRECHO EN COMPARACIÓN CON LOS MATERIALES AISLANTES.
  • 7.
    SEMICONDUCTORES "INTRÍNSECOS" ESTRUCTURACRISTALINA DE UN SEMICONDUCTOR INTRÍNSECO, COMPUESTA SOLAMENTE POR ÁTOMOS DE SILICIO (SI) QUE FORMAN UNA CELOSÍA. COMO SE PUEDE OBSERVAR EN LA ILUSTRACIÓN, LOS ÁTOMOS DE SILICIO (QUE SÓLO POSEEN CUATRO ELECTRONES EN LA ÚLTIMA ÓRBITA O BANDA DE VALENCIA), SE UNEN FORMANDO ENLACES COVALENTE PARA COMPLETAR OCHO ELECTRONES Y CREAR ASÍ UN CUERPO SÓLIDO SEMICONDUCTOR. EN ESAS CONDICIONES EL CRISTAL DE SILICIO SE COMPORTARÁ IGUAL QUE SI FUERA UN CUERPO AISLANTE.
  • 8.
    LOS SEMICONDUCTORES DOPADOS  El dopaje consiste en sustituir algunos átomos de silicio por átomos de otros elementos. A estos últimos se les conoce con el nombre de impurezas. Dependiendo del tipo de impureza con el que se dope al semiconductor puro o intrínseco aparecen dos clases de semiconductores.(5)  Semiconductor tipo P  Semiconductor tipo N Sentido del movimiento de un electrón y un hueco en el silicio.
  • 9.
    CASO 1 DOPADODE UN SEMICONDUCTOR  Impurezas de valencia 5 (Arsénico, Antimonio, Fósforo). Tenemos un cristal de Silicio dopado con átomos de valencia 5  Los átomo de valencia 5 tienen un electrón de más, así con una temperatura no muy elevada (a temperatura ambiente por ejemplo), el 5º electrón se hace electrón libre. Esto es, como solo se pueden tener 8 electrones en la órbita de valencia, el átomo pentavalente suelta un electrón que será libre.
  • 10.
    CASO 2 Impurezas de valencia 3 (Aluminio, Boro, Galio). Tenemos un cristal de Silicio dopado con átomos de valencia 3.  Los átomo de valencia 3 tienen un electrón de menos, entonces como nos falta un electrón tenemos un hueco. Esto es, ese átomo trivalente tiene 7 electrones en la orbita de valencia. Al átomo de valencia 3 se le llama "átomo trivalente" o "Aceptor".  A estas impurezas se les llama "Impurezas Aceptoras". Hay tantos huecos como impurezas de valencia 3 y sigue habiendo huecos de generación térmica (muy pocos). El número de huecos se llama p (huecos/m3). (7)
  • 11.
    ELEMENTOS DOPANTES Para los semiconductores del Grupo IV como Silicio, Germanio y Carburo de silicio, los dopantes más comunes son elementos del Grupo III o del Grupo V. Boro, Arsénico, Fósforo, y ocasionalmente Galio, son utilizados para dopar al Silicio. Ejemplo de dopaje de Silicio por el Fósforo (dopaje Tipo N). En el caso del Fósforo, se dona un electrón
  • 12.
    EJEMPLO DE DOPAJE«TIPO P»  El siguiente es un ejemplo de dopaje de Silicio por el Boro (P dopaje). En el caso del boro le falta un electrón y, por tanto, es donado un hueco de electrón.La cantidad de portadores mayoritarios será función directa de la cantidad de átomos de impurezas introducidos. En el doping tipo p, la creación de agujeros, es alcanzada mediante la incorporación en el silicio de átomos con 3 electrones de valencia, generalmente se utiliza boro.(9)
  • 13.
    CONCLUSIONES En laproducción de semiconductores, se denomina dopaje al proceso intencional de agregar impurezas en un semiconductor extremadamente puro (también referido como intrínseco) con el fin de cambiar sus propiedades eléctricas. Las impurezas utilizadas dependen del tipo de semiconductores a dopar. Un semiconductor es “intrínseco” cuando se encuentra en estado puro, o sea, que no contiene ninguna impureza, ni átomos de otro tipo dentro de su estructura. En ese caso, la cantidad de huecos que dejan los electrones en la banda de valencia al atravesar la banda prohibida será igual a la cantidad de electrones libres que se encuentran presentes en la banda de conducción
  • 14.
     http://www.asifunciona.com/fisica/ke_semiconductor/ke_se miconductor_5.htm  http://www.ifent.org/lecciones/semiconductor/dopado.asp  http://www.sc.ehu.es/sbweb/electronica/elec_basica/tema2 /Paginas/Pagina5.htm  http://www.sc.ehu.es/sbweb/electronica/elec_basica/tema2 /Paginas/Pagina5.htm  http://es.wikipedia.org/wiki/Dopaje_(semiconductores)  http://ecotecnologias.wordpress.com/tag/celdas-solares/