PRESENTADOPOR:
LIZBETHBEATRIZESPIRITUMAURICIO.
CARRERA: ING.SISTEMASE INFORMATICA.
CICLO : IV.
AÑO : 2014
 Altecsa - Alternativa Electrotécnica Sac.
 EPLI S.A.C - Líder en Electrónica de Potencia.
 Centralion - Uninterruptible Power Supply.
 MTC Radio & Tv.
 Tai Loy S.A..
 RTA Eventos - Producción de Eventos.
TRANSISTOR:
Es un pequeño
dispositivo
semiconductor que
cierra o abre un
circuito o amplifica
una señal; se emplea
en circuitos
integrados para
generar bits (ceros y
unos).
TRANSISTORES DE PUNTA DE
CONTACTO:
El transistor original fue de esta clase
y consistía en electrodos de emisor y
colector que tocaban un pequeño bloque
de germanio llamado base. El material
de la base podía ser de tipo N y del tipo
P y era un cuadrado de 0.05 pulgada de
lado aproximadamente. A causa de la
dificultad de controlar las
características de este frágil
dispositivo, ahora se le considera
obsoleto.
TRANSISTORES DE UNION POR
CRECIMIENTO:
Los cristales de esta clase se obtienen por un proceso de
"crecimiento" partiendo de germanio y de silicio fundidos de
manera que presenten uniones muy poco separadas embebidas
en la pastilla. El material de impureza se cambia durante el
crecimiento del cristal para producir lingotes PNP o NPN, que
luego son cortados para obtener pastillas individuales. Los
transistores de unión se pueden subdividir en tipos de unión de
crecimiento, unión de alineación y de campo interno. El
transistor del último tipo es un dispositivo de unión de
alineación en que la concentración de impurezas que está
contenida dentro de una cierta región de la base a fin de
mejorar el comportamiento en alta frecuencia del transistor.
TRANSISTOR DE UNION DIFUSA:
Esta clase de semiconductor se puede
utilizar en un margen más amplio de
frecuencias y el proceso de fabricación
ha facilitado el uso de silicio en vez de
germanio, lo cual favorece la capacidad
de potencia de la unidad. Los
transistores de unión difusa se pueden
subdividir en tipos de difusión única
(hometaxial), doble difusión, doble
difusión planar y triple difusión planar.
TRANSISTORES EPITAXIALES:
Estos transistores de unión se obtienen
por el proceso de crecimiento en una
pastilla de semiconductor y procesos
fotolitográficos que se utilizan para
definir las regiones de emisor y de base
durante el crecimiento. Las unidades se
pueden subdividir en transistores de
base epitaxial, capa epitaxial y
sobrecapa (overlay).
TRANSISTORES DE EFECTO DE
CAMPO:El transistor de efecto de campo de unión (JFET), o
transistor unipolar, fue descubierto en 1928, pero hasta
1958 no se construyó el primer transistor práctico de
efecto de campo. Se puede considerar a este dispositivo
como si fuese una barra, o canal, de material
semiconductor de silicio de cualquiera de los tipos N o P.
En cada extremo de la barra se establece un contacto
óhmico, que representa un transistor de efecto de campo
tipo N en su forma más sencilla. Si se difunden dos
regiones P en una barra de material N (desde los extremos
opuestos del canal N) y se conectan externamente entre
sí, se produce una puerta o graduador. Un contacto se
llama surtidor y el otro drenador.
Podemos clasificar los transistores de efecto campo según el método de aislamiento entre el
canal y la puerta:
•El MOSFET (Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor) usa un aislante
(normalmente SiO2).
•El JFET (Junction Field-Effect Transistor) usa una unión p-n
•El MESFET (Metal-Semiconductor Field Effect Transistor) substituye la unión PN del JFET
con una barrera Schottky.
•En el HEMT (High Electron Mobility Transistor), también denominado HFET (heterostructure
FET), la banda de material dopada con "huecos" forma el aislante entre la puerta y el
cuerpo del transistor.
•Los MODFET (Modulation-Doped Field Effect Transistor)
•Los IGBT (Insulated-gate bipolar transistor) es un dispositivo para control de potencia. Son
comúnmente usados cuando el rango de voltaje drenaje-fuente está entre los 200 a 3000V.
Aun así los Power MOSFETtodavía son los dispositivos más utilizados en el rango de tensiones
drenaje-fuente de 1 a 200V.
•Los FREDFET es un FET especializado diseñado para otorgar una recuperación ultra rápida
del transistor.por eso tenemos lareferencia
•Los DNAFET es un tipo especializado de FET que actúa como biosensor, usando una puerta
fabricada de moléculas de ADN de una cadena para detectar cadenas de ADN iguales.
BIBLIOGRAFIA:
http://es.wikipedia.org/wiki/Transistor_de_efecto_ca
mpo
http://es.wikipedia.org/wiki/Transistor
http://rabfis15.uco.es/transistoresweb/Tutorial_Gene
ral/tiposTransistoresFabricacion.html
http://www.electronicafacil.net/tutoriales/TRANSIST
OR-FET.php

Transistores

  • 1.
  • 3.
     Altecsa -Alternativa Electrotécnica Sac.  EPLI S.A.C - Líder en Electrónica de Potencia.  Centralion - Uninterruptible Power Supply.  MTC Radio & Tv.  Tai Loy S.A..  RTA Eventos - Producción de Eventos.
  • 4.
    TRANSISTOR: Es un pequeño dispositivo semiconductorque cierra o abre un circuito o amplifica una señal; se emplea en circuitos integrados para generar bits (ceros y unos).
  • 6.
    TRANSISTORES DE PUNTADE CONTACTO: El transistor original fue de esta clase y consistía en electrodos de emisor y colector que tocaban un pequeño bloque de germanio llamado base. El material de la base podía ser de tipo N y del tipo P y era un cuadrado de 0.05 pulgada de lado aproximadamente. A causa de la dificultad de controlar las características de este frágil dispositivo, ahora se le considera obsoleto.
  • 7.
    TRANSISTORES DE UNIONPOR CRECIMIENTO: Los cristales de esta clase se obtienen por un proceso de "crecimiento" partiendo de germanio y de silicio fundidos de manera que presenten uniones muy poco separadas embebidas en la pastilla. El material de impureza se cambia durante el crecimiento del cristal para producir lingotes PNP o NPN, que luego son cortados para obtener pastillas individuales. Los transistores de unión se pueden subdividir en tipos de unión de crecimiento, unión de alineación y de campo interno. El transistor del último tipo es un dispositivo de unión de alineación en que la concentración de impurezas que está contenida dentro de una cierta región de la base a fin de mejorar el comportamiento en alta frecuencia del transistor.
  • 8.
    TRANSISTOR DE UNIONDIFUSA: Esta clase de semiconductor se puede utilizar en un margen más amplio de frecuencias y el proceso de fabricación ha facilitado el uso de silicio en vez de germanio, lo cual favorece la capacidad de potencia de la unidad. Los transistores de unión difusa se pueden subdividir en tipos de difusión única (hometaxial), doble difusión, doble difusión planar y triple difusión planar.
  • 9.
    TRANSISTORES EPITAXIALES: Estos transistoresde unión se obtienen por el proceso de crecimiento en una pastilla de semiconductor y procesos fotolitográficos que se utilizan para definir las regiones de emisor y de base durante el crecimiento. Las unidades se pueden subdividir en transistores de base epitaxial, capa epitaxial y sobrecapa (overlay).
  • 10.
    TRANSISTORES DE EFECTODE CAMPO:El transistor de efecto de campo de unión (JFET), o transistor unipolar, fue descubierto en 1928, pero hasta 1958 no se construyó el primer transistor práctico de efecto de campo. Se puede considerar a este dispositivo como si fuese una barra, o canal, de material semiconductor de silicio de cualquiera de los tipos N o P. En cada extremo de la barra se establece un contacto óhmico, que representa un transistor de efecto de campo tipo N en su forma más sencilla. Si se difunden dos regiones P en una barra de material N (desde los extremos opuestos del canal N) y se conectan externamente entre sí, se produce una puerta o graduador. Un contacto se llama surtidor y el otro drenador.
  • 11.
    Podemos clasificar lostransistores de efecto campo según el método de aislamiento entre el canal y la puerta: •El MOSFET (Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor) usa un aislante (normalmente SiO2). •El JFET (Junction Field-Effect Transistor) usa una unión p-n •El MESFET (Metal-Semiconductor Field Effect Transistor) substituye la unión PN del JFET con una barrera Schottky. •En el HEMT (High Electron Mobility Transistor), también denominado HFET (heterostructure FET), la banda de material dopada con "huecos" forma el aislante entre la puerta y el cuerpo del transistor. •Los MODFET (Modulation-Doped Field Effect Transistor) •Los IGBT (Insulated-gate bipolar transistor) es un dispositivo para control de potencia. Son comúnmente usados cuando el rango de voltaje drenaje-fuente está entre los 200 a 3000V. Aun así los Power MOSFETtodavía son los dispositivos más utilizados en el rango de tensiones drenaje-fuente de 1 a 200V. •Los FREDFET es un FET especializado diseñado para otorgar una recuperación ultra rápida del transistor.por eso tenemos lareferencia •Los DNAFET es un tipo especializado de FET que actúa como biosensor, usando una puerta fabricada de moléculas de ADN de una cadena para detectar cadenas de ADN iguales.
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