etal
xide
emiconductor
ield
ffect
ransistor
Transistores de efecto de campo
JFET MOSFET
• 1930 - Concepto basico.
• 1960 - Comercialización
• 1980 - Popularización
Comparación con los BJT
• Los transistores MOS ocupan menos espacio.
• Su proceso de fabricación es también más simple.
• Existe un gran número de funciones lógicas que pueden
ser implementadas únicamente con transistores MOS
BJT(Bipolar Junction Transistor) – Transistores de unión bipolar
Fue ideado teóricamente por el alemán Julius Von Edgar
Lilienfeld en 1930, aunque debido a problemas de carácter
tecnológico y el desconocimiento acerca de cómo se
comportan los electrones sobre la superficie del
semiconductor no se pudieron fabricar hasta décadas más
tarde.
• Es un transistor utilizado para amplificar o conmutar señales
electrónicas.
• Es un arreglo de cientos de transistores integrados en un sustrato de
silicio.
• Es un dispositivo controlado por tensión.
• Es un dispositivo extremadamente veloz en virtud a la pequeña
corriente necesaria para estrangular o liberar el canal.
Enriquecimiento Empobrecimiento
Conmutación digital,
proceso básico que
fundamenta los
ordenadores
modernos
Tiene un uso
limitado,
principalmente en
circuitos de
radiofrecuencia.
Se usa mucho
Circuitos discretos Circuitos integrados
Interruptores de
potencia
Tipos
Canal N Canal P
G - Puerta (GATE)
D - Drenador (DRAIN)
S - Surtidor o fuente (SOURCE)
G
D
S
G
D
S
G
D
S
G
D
S
Canal N Canal P
MOSFET acumulación
(Enriquecimiento)
MOSFET deplexión
(Empobrecimiento)
Principio de funcionamiento:
Se basan en el efecto de campo entre estas dos placas separadas por un dielectrico
Se muestra como un corto circuito pero se regulará con un voltaje positivo o negativo
Capasitor
Principio de funcionamiento:
Sí se aplica un voltaje positivo, la placa
superior se carga positivamente
Sí aumenta el voltaje, la densidad de campo
eléctrico aumenta.
Principio de funcionamiento:
Lo mismo aplica al cargar negativamente,
la placa superior se carga negativamente
Sí aumenta el voltaje, la densidad de campo
eléctrico aumenta.
Para entender mejor su funcionamiento, se realizarán cambios
La placa superior seguirá siendo igual y la placa inferior se cambiará por un
semiconductor, en este caso un semiconductor tipo p (huecos).
Principio de funcionamiento:
Sí se aplica un voltaje positivo la placa superior se carga positivamente
Esta carga positiva tratará de repeler los huecos hacia la parte inferior del semicondutor
Principio de funcionamiento:
Al aumentarse el potencial aparece una región verde llamada “Región de carga espacial”
Los huecos que estaban distribuidos uniformemente, están siendo desplazados hacia la
parte inferior del semiconductor
Impuresas
aceptores
Cuando el voltaje es muy intenso los portadores minoritarios en el semiconductor son
atraidos hacía la superficie del semicondutor
Incremento de
electrones
Hace que el semiconductor pase de ser p a ser semiconductor tipo n, solamente en la
superficie del conductor.
Principio de funcionamiento:
Principio de funcionamiento:
Al incrementarse el voltaje, se enriquese el incremento de electrones (canal)
Principio de funcionamiento:
Se basan en el efecto de campo entre estas dos placas separadas por un dielectrico
Se muestra como un corto circuito pero se regulará con un voltaje positivo o negativo
Capasitor
Principio de funcionamiento:
Sí se aplica un voltaje positivo, la placa
superior se carga positivamente
Sí aumenta el voltaje, la densidad de campo
eléctrico aumenta.
Principio de funcionamiento:
Lo mismo aplica al cargar negativamente,
la placa superior se carga negativamente
Sí aumenta el voltaje, la densidad de campo
eléctrico aumenta.
Para entender mejor su funcionamiento, se realizarán cambios
La placa superior seguirá siendo igual y la placa inferior se cambiará por un
semiconductor, en este caso un semiconductor tipo p (huecos).
Principio de funcionamiento:
Sí se aplica un voltaje positivo la placa superior se carga positivamente
Esta carga positiva tratará de repeler los huecos hacia la parte inferior del semicondutor
Principio de funcionamiento:
Al aumentarse el potencial aparece una región verde llamada “Región de carga espacial”
Los huecos que estaban distribuidos uniformemente, están siendo desplazados hacia la
parte inferior del semiconductor
Impuresas
aceptores
Principio de funcionamiento:
Cuando el voltaje es muy intenso los portadores minoritarios en el semiconductor son
atraidos hacía la superficie del semicondutor
Incremento de
electrones
Hace que el semiconductor pase de ser p a ser semiconductor tipo n, solamente en la
superficie del conductor.
Principio de funcionamiento:
Puntos rojos – Electrones
Cuadritos - Huecos
Al aumentarse un voltaje se ve claramente que los electrones se van a la superficie del
semicondutor y los huecos al inferior de la misma.
Principio de funcionamiento:
Aquí se muestra ya un diagrama más complejo
Para que funcione como
transistor se debe
aprovechar el canal que se
forma.
El objetivo es unir la región
de fuente y drenaje mediante
un canal, para que por ese
canal pueda fluir la corriente
Malla VDS
El control de la corriente se
establecerá por el campo
eléctrico producido por la
compuerta y el sustrato.
Entre estos dos se forma un
capasitor.
(Lo ya explicado
anteriormente)
Malla VGS
Como ya se vio
anteriormente, al
incrementar el voltaje se
forma un canal.
Este canal se forma desde los
6v, ese es nuestro voltaje
critico.
VT= Voltaje umbral
Para que pueda fluir la
corriente entre fuente y
Drenaje, se necesita una
fuente externa para que se
pueda generar corriente
El voltaje se incrementa, más
sin embargo no es suficiente
para que pueda fluir la
corriente
Al llegar a los 6v en adelante
hay canal, por lo tanto hay
flujo de corriente
Mientras aumenta el voltaje
aumenta la corriente.
Sí VGS llega al maximo
En este caso a 10v la malla
será controlada por VDS.
Hasta llegar a un punto en
que la corriente no cambiará
y solo disminuirá si regulamos
V GS.
Siempre y cuando halla canal.
UDS (V)
ID (mA) UGS
2 4 6 8
10
20
30
40
4
6
8
10
Por debajo de
esta tensión no
se forma el canal
Estructura y funcionamiento de un MOS de acumulación de canal N
Curvas características
• A partir de un cierto valor de UGS se forma el canal entre drenador y fuente.
Por debajo de este límite el transistor está en corte.
• Dependiendo de la tensión UDS se puede tener un equivalente resistivo o de
fuente de corriente entre D y S
G
D
S
U G S
ID
U D S
Estructura y funcionamiento de un MOS de acumulación de canal P
Curvas características
G
D
S
U G S
ID
U D S
UDS (V)
ID (mA)
UGS
-2 -4 -6 -8
-10
-20
-30
-40
-4
-6
-8
-10
• Canal P: comportamiento equivalente al del MOSFET de canal N pero con los
sentidos de tensiones y corrientes invertidos
Estructura y funcionamiento de un MOSFET de deplexión de canal N
P
N N
D
G S
n
Difusión hecha durante
el proceso de fabricación
UDS (V)
ID (mA) UGS
2 4 6 8
10
20
30
40
-2
0
2
Ya hay canal
formado
• En los MOSFET de deplexión el canal se forma mediante una difusión adicional
durante el proceso de fabricación
• Con tensión UGS nula puede haber circulación de corriente de drenador
• Es necesario aplicar tensión negativa UGS para cerrar el canal
Bibliografía:
• Principios de electrónica. Principios de Electrónica, de Albert Paul
Malvino, edit. Mc Graw Hill quinta edición, España 1994. Capítulo 1
Introducción. Capítulo 14 MOSFET
• Youtube, Fernando Ramirez (2014) 19.1 Funcionamiento de los
Transistores MOSFET y JFET. Recuperado de
https://www.youtube.com/watch?v=5dNvnTPTwRo

Mosfet_Funcionamiento

  • 1.
  • 2.
    Transistores de efectode campo JFET MOSFET • 1930 - Concepto basico. • 1960 - Comercialización • 1980 - Popularización Comparación con los BJT • Los transistores MOS ocupan menos espacio. • Su proceso de fabricación es también más simple. • Existe un gran número de funciones lógicas que pueden ser implementadas únicamente con transistores MOS BJT(Bipolar Junction Transistor) – Transistores de unión bipolar
  • 3.
    Fue ideado teóricamentepor el alemán Julius Von Edgar Lilienfeld en 1930, aunque debido a problemas de carácter tecnológico y el desconocimiento acerca de cómo se comportan los electrones sobre la superficie del semiconductor no se pudieron fabricar hasta décadas más tarde.
  • 4.
    • Es untransistor utilizado para amplificar o conmutar señales electrónicas. • Es un arreglo de cientos de transistores integrados en un sustrato de silicio. • Es un dispositivo controlado por tensión. • Es un dispositivo extremadamente veloz en virtud a la pequeña corriente necesaria para estrangular o liberar el canal.
  • 5.
    Enriquecimiento Empobrecimiento Conmutación digital, procesobásico que fundamenta los ordenadores modernos Tiene un uso limitado, principalmente en circuitos de radiofrecuencia. Se usa mucho Circuitos discretos Circuitos integrados Interruptores de potencia Tipos
  • 6.
    Canal N CanalP G - Puerta (GATE) D - Drenador (DRAIN) S - Surtidor o fuente (SOURCE) G D S G D S G D S G D S Canal N Canal P MOSFET acumulación (Enriquecimiento) MOSFET deplexión (Empobrecimiento)
  • 7.
    Principio de funcionamiento: Sebasan en el efecto de campo entre estas dos placas separadas por un dielectrico Se muestra como un corto circuito pero se regulará con un voltaje positivo o negativo Capasitor
  • 8.
    Principio de funcionamiento: Síse aplica un voltaje positivo, la placa superior se carga positivamente Sí aumenta el voltaje, la densidad de campo eléctrico aumenta.
  • 9.
    Principio de funcionamiento: Lomismo aplica al cargar negativamente, la placa superior se carga negativamente Sí aumenta el voltaje, la densidad de campo eléctrico aumenta.
  • 10.
    Para entender mejorsu funcionamiento, se realizarán cambios La placa superior seguirá siendo igual y la placa inferior se cambiará por un semiconductor, en este caso un semiconductor tipo p (huecos). Principio de funcionamiento:
  • 11.
    Sí se aplicaun voltaje positivo la placa superior se carga positivamente Esta carga positiva tratará de repeler los huecos hacia la parte inferior del semicondutor Principio de funcionamiento:
  • 12.
    Al aumentarse elpotencial aparece una región verde llamada “Región de carga espacial” Los huecos que estaban distribuidos uniformemente, están siendo desplazados hacia la parte inferior del semiconductor Impuresas aceptores
  • 13.
    Cuando el voltajees muy intenso los portadores minoritarios en el semiconductor son atraidos hacía la superficie del semicondutor Incremento de electrones Hace que el semiconductor pase de ser p a ser semiconductor tipo n, solamente en la superficie del conductor. Principio de funcionamiento:
  • 14.
    Principio de funcionamiento: Alincrementarse el voltaje, se enriquese el incremento de electrones (canal)
  • 15.
    Principio de funcionamiento: Sebasan en el efecto de campo entre estas dos placas separadas por un dielectrico Se muestra como un corto circuito pero se regulará con un voltaje positivo o negativo Capasitor
  • 16.
    Principio de funcionamiento: Síse aplica un voltaje positivo, la placa superior se carga positivamente Sí aumenta el voltaje, la densidad de campo eléctrico aumenta.
  • 17.
    Principio de funcionamiento: Lomismo aplica al cargar negativamente, la placa superior se carga negativamente Sí aumenta el voltaje, la densidad de campo eléctrico aumenta.
  • 18.
    Para entender mejorsu funcionamiento, se realizarán cambios La placa superior seguirá siendo igual y la placa inferior se cambiará por un semiconductor, en este caso un semiconductor tipo p (huecos). Principio de funcionamiento:
  • 19.
    Sí se aplicaun voltaje positivo la placa superior se carga positivamente Esta carga positiva tratará de repeler los huecos hacia la parte inferior del semicondutor Principio de funcionamiento:
  • 20.
    Al aumentarse elpotencial aparece una región verde llamada “Región de carga espacial” Los huecos que estaban distribuidos uniformemente, están siendo desplazados hacia la parte inferior del semiconductor Impuresas aceptores Principio de funcionamiento:
  • 21.
    Cuando el voltajees muy intenso los portadores minoritarios en el semiconductor son atraidos hacía la superficie del semicondutor Incremento de electrones Hace que el semiconductor pase de ser p a ser semiconductor tipo n, solamente en la superficie del conductor. Principio de funcionamiento:
  • 22.
    Puntos rojos –Electrones Cuadritos - Huecos Al aumentarse un voltaje se ve claramente que los electrones se van a la superficie del semicondutor y los huecos al inferior de la misma. Principio de funcionamiento:
  • 23.
    Aquí se muestraya un diagrama más complejo Para que funcione como transistor se debe aprovechar el canal que se forma.
  • 24.
    El objetivo esunir la región de fuente y drenaje mediante un canal, para que por ese canal pueda fluir la corriente Malla VDS
  • 25.
    El control dela corriente se establecerá por el campo eléctrico producido por la compuerta y el sustrato. Entre estos dos se forma un capasitor. (Lo ya explicado anteriormente) Malla VGS
  • 26.
    Como ya sevio anteriormente, al incrementar el voltaje se forma un canal. Este canal se forma desde los 6v, ese es nuestro voltaje critico. VT= Voltaje umbral
  • 27.
    Para que puedafluir la corriente entre fuente y Drenaje, se necesita una fuente externa para que se pueda generar corriente
  • 28.
    El voltaje seincrementa, más sin embargo no es suficiente para que pueda fluir la corriente
  • 29.
    Al llegar alos 6v en adelante hay canal, por lo tanto hay flujo de corriente Mientras aumenta el voltaje aumenta la corriente.
  • 30.
    Sí VGS llegaal maximo En este caso a 10v la malla será controlada por VDS. Hasta llegar a un punto en que la corriente no cambiará y solo disminuirá si regulamos V GS. Siempre y cuando halla canal.
  • 31.
    UDS (V) ID (mA)UGS 2 4 6 8 10 20 30 40 4 6 8 10 Por debajo de esta tensión no se forma el canal Estructura y funcionamiento de un MOS de acumulación de canal N Curvas características • A partir de un cierto valor de UGS se forma el canal entre drenador y fuente. Por debajo de este límite el transistor está en corte. • Dependiendo de la tensión UDS se puede tener un equivalente resistivo o de fuente de corriente entre D y S G D S U G S ID U D S
  • 32.
    Estructura y funcionamientode un MOS de acumulación de canal P Curvas características G D S U G S ID U D S UDS (V) ID (mA) UGS -2 -4 -6 -8 -10 -20 -30 -40 -4 -6 -8 -10 • Canal P: comportamiento equivalente al del MOSFET de canal N pero con los sentidos de tensiones y corrientes invertidos
  • 33.
    Estructura y funcionamientode un MOSFET de deplexión de canal N P N N D G S n Difusión hecha durante el proceso de fabricación UDS (V) ID (mA) UGS 2 4 6 8 10 20 30 40 -2 0 2 Ya hay canal formado • En los MOSFET de deplexión el canal se forma mediante una difusión adicional durante el proceso de fabricación • Con tensión UGS nula puede haber circulación de corriente de drenador • Es necesario aplicar tensión negativa UGS para cerrar el canal
  • 34.
    Bibliografía: • Principios deelectrónica. Principios de Electrónica, de Albert Paul Malvino, edit. Mc Graw Hill quinta edición, España 1994. Capítulo 1 Introducción. Capítulo 14 MOSFET • Youtube, Fernando Ramirez (2014) 19.1 Funcionamiento de los Transistores MOSFET y JFET. Recuperado de https://www.youtube.com/watch?v=5dNvnTPTwRo