1. Fabricación de nanomateriales: deposición Daniel Martín Yerga

2. Introducción Deposición ¿Técnica Top-down?

3. Mecanismos homogéneos Sustrato y película, mismo material y estructura Crecimiento de película homogénea Dominado por Energía superficial Difusión superficial rápida (alta T) -> Modelo de Propagación de pasos Difusión superficial lenta (baja T) -> Modelo de Crecimiento de isla

4. Mecanismos heterogéneos Sustrato y película, diferente material o estructura Crecimiento de película heterogénea Influye Energía superficial y Energía elástica de red Modelo Frank- van der Welve (a) Esup (sustrato) > Esup (película) + Esup (interfase) Modelo Volmer-Weber (b) Esup (sustrato) < Esup (película) + Esup (interfase) Modelo Stranski-Krastanov (c) Red (sustrato) ≠ Red (película)

5. Tipos de deposición

6. PVD

7. PVD

8. PVD

9. CVD Reacción química sobre el sustrato para formar la película Transporte de masa de reactivos Adsorción sobre sustrato Reacción química Desorción de los productos Transporte de masa de productos

10. Tipos de CVD CVD asistida por plasma Presión atmosférica, baja presión, ultra alto vacío Deposición de capa atómica (ALD)

11. ALD Deposición de capa atómica Introducir reactivo 1 Adsorción reactivo 1 en el sustrato Transferencia de masa del reactivo 1 residual Introducir reactivo 2 Reacción de reactivo 2 con monocapa de reactivo 1, formando capa atómica Transferencia de masa del reactivo 2 residual Ciclos -> grosor de película deseada

12. Resumen

13. Electrodeposición