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Fabricación de los
MICROOPROCESADORES.




  Por: Rosario Aguilar Carrera y
  Patricia García Segovia 4ªB
• Todo comienza con un buen
  puñado de arena (compuesta
  básicamente de silicio), con la que
  se fabrica un monocristal de unos 20
  x 150 centímetros. Para ello, se
  funde el material en cuestión a alta
  temperatura (1370º C) y muy
  lentamente (10 a 40 mm por hora)
  se va formando el cristal.
De este cristal, se cortan
 los extremos y la
 superficie exterior, de
 forma de obtener un
 cilindro perfecto. Luego,
 el cilindro se corta en
 obleas (wafer) de
 menos de un milímetro
 de espesor, utilizando
 una sierra de diamante.
 De cada cilindro se
 obtienen miles de
 wafers, y de cada oblea
 se fabricarán varios
 cientos de
 microprocesadores.
• Estas obleas son pulidas hasta obtener una superficie
  perfectamente plana, pasan por un proceso llamado
  “annealing, que consiste en un someterlas a un
  calentamiento extremo para remover cualquier
  defecto o impureza que pueda haber llegado a esta
  instancia. Luego de una supervisión mediante láseres
  capaz de detectar imperfecciones menores a una
  milésima de micrón, se recubren con una capa
  aislante formada por óxido de silicio transferido
  mediante deposición de vapor.
• De aquí en más, comienza el proceso del
  “dibujado” de los transistores que
  conformarán a cada
  microprocesador.consiste en la “impresión”
  de sucesivas máscaras sobre el wafer, que
  son endurecidas mediante luz ultravioleta y
  atacada por ácidos encargados de remover
  las zonas no cubiertas por la impresión.
• Cada capa que se “pinta” sobre el wafer permite o bien la
  eliminación de algunas partes de la superficie, o la preparación
  para que reciba el aporte de átomos (aluminio o cobre, por
  ejemplo) destinados a formar parte de los transistores que
  conformaran el microprocesador. Una vez que el wafer ha
  pasado por todo el proceso litográfico, tiene “grabados” en su
  superficie varios cientos de microprocesadores, cuya integridad
  es comprobada antes de cortarlos.
• Todo este trabajo sobre las obleas de
  silicio se realiza en “clean rooms”
  (ambientes limpios), con sistemas de
  ventilación y filtrado iónico de
  precisión, ya una pequeña partícula
  de polvo puede malograr un
  procesador.
• Cada una de estas
  plaquitas será dotada de
  una capsula protectora
  plástica (en algunos casos
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  • 1. Fabricación de los MICROOPROCESADORES. Por: Rosario Aguilar Carrera y Patricia García Segovia 4ªB
  • 2. • Todo comienza con un buen puñado de arena (compuesta básicamente de silicio), con la que se fabrica un monocristal de unos 20 x 150 centímetros. Para ello, se funde el material en cuestión a alta temperatura (1370º C) y muy lentamente (10 a 40 mm por hora) se va formando el cristal.
  • 3. De este cristal, se cortan los extremos y la superficie exterior, de forma de obtener un cilindro perfecto. Luego, el cilindro se corta en obleas (wafer) de menos de un milímetro de espesor, utilizando una sierra de diamante. De cada cilindro se obtienen miles de wafers, y de cada oblea se fabricarán varios cientos de microprocesadores.
  • 4. • Estas obleas son pulidas hasta obtener una superficie perfectamente plana, pasan por un proceso llamado “annealing, que consiste en un someterlas a un calentamiento extremo para remover cualquier defecto o impureza que pueda haber llegado a esta instancia. Luego de una supervisión mediante láseres capaz de detectar imperfecciones menores a una milésima de micrón, se recubren con una capa aislante formada por óxido de silicio transferido mediante deposición de vapor.
  • 5. • De aquí en más, comienza el proceso del “dibujado” de los transistores que conformarán a cada microprocesador.consiste en la “impresión” de sucesivas máscaras sobre el wafer, que son endurecidas mediante luz ultravioleta y atacada por ácidos encargados de remover las zonas no cubiertas por la impresión.
  • 6. • Cada capa que se “pinta” sobre el wafer permite o bien la eliminación de algunas partes de la superficie, o la preparación para que reciba el aporte de átomos (aluminio o cobre, por ejemplo) destinados a formar parte de los transistores que conformaran el microprocesador. Una vez que el wafer ha pasado por todo el proceso litográfico, tiene “grabados” en su superficie varios cientos de microprocesadores, cuya integridad es comprobada antes de cortarlos.
  • 7. • Todo este trabajo sobre las obleas de silicio se realiza en “clean rooms” (ambientes limpios), con sistemas de ventilación y filtrado iónico de precisión, ya una pequeña partícula de polvo puede malograr un procesador.
  • 8. • Cada una de estas plaquitas será dotada de una capsula protectora plástica (en algunos casos pueden ser cerámicas) y conectada a los cientos de pines metálicos que le permitirán interactuar con el mundo exterior. Cada una de estas conexiones se realiza utilizando delgadísimos alambres, generalmente de oro.