El documento describe el proceso de nanosilización de la base del camino perimetral del nuevo Aeropuerto Internacional de la Ciudad de México. Este proceso incluye la elaboración de una mezcla de nanosílice en una planta especializada, la colocación y compactación de la capa de base nanosílica, y la aplicación de un curado para la base antes de colocar la carpeta asfáltica. El proceso mejora las propiedades mecánicas y de resistencia de la base.