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ALUMNO CARLOS ALBERTO MORALES LARRAÑAGA
INGENIERÍA DE SISTEMAS
E INFORMÁTICA
IV CICLO
 Un semiconductor es un elemento que se
comporta como un conductor o como
aislante dependiendo de diversos factores,
como por ejemplo el campo eléctrico o
magnético, la presión, la radiación que le
incide, o la temperatura del ambiente en el
que se encuentre.
 Se dice que un semiconductor es
“intrínseco” cuando se encuentra en
estado puro, o sea, que no contiene
ninguna impureza, ni átomos de otro
tipo dentro de su estructura. En ese caso,
la cantidad de huecos que dejan los
electrones en la banda de valencia al
atravesar la banda prohibida será igual a
la cantidad de electrones libres que se
encuentran presentes en la banda de
conducción.
 Cuando se eleva la temperatura de la red
cristalina de un elemento semiconductor
intrínseco, algunos de los enlaces
covalentes se rompen y varios electrones
pertenecientes a la banda de valencia se
liberan de la atracción que ejerce el núcleo
del átomo sobre los mismos. Esos
electrones libres saltan a la banda de
conducción y allí funcionan como
“electrones de conducción”, pudiéndose
desplazar libremente de un átomo a otro
dentro de la propia estructura cristalina,
siempre que el elemento semiconductor se
estimule con el paso de una corriente
eléctrica.
 Como se puede observar en la ilustración, en el caso de
los semiconductores el espacio correspondiente a la banda
prohibida es mucho más estrecho en comparación con los
materiales aislantes. La energía de salto de banda (Eg)
requerida por los electrones para saltar de la banda de
valencia a la de conducción es de 1 eV aproximadamente.
En los semiconductores de silicio (Si), la energía de salto
de banda requerida por los electrones es de 1,21 eV,
mientras que en los de germanio (Ge) es de 0,785 eV.
 Estructura cristalina de un semiconductor intrínseco,
compuesta solamente por átomos de silicio (Si) que
forman una celosía. Como se puede observar en la
ilustración, los átomos de silicio (que sólo poseen
cuatro electrones en la última órbita o banda de
valencia), se unen formando enlaces covalente para
completar ocho electrones y crear así un cuerpo
sólido semiconductor. En esas condiciones el cristal
de silicio se comportará igual que si fuera un cuerpo
aislante.
 Cuando a la estructura molecular cristalina del silicio o
del germanio se le introduce cierta alteración, esos
elementos semiconductores permiten el paso de la
corriente eléctrica por su cuerpo en una sola dirección.
Para hacer posible, la estructura molecular del
semiconductor se dopa mezclando los átomos de
silicio o de germanio con pequeñas cantidades de
átomos de otros elementos o "impurezas".
 Generalmente los átomos de las “impurezas”
corresponden también a elementos semiconductores
que, en lugar de cuatro, poseen tres electrones en su
última órbita [como el galio (Ga) o el indio (In)], o que
poseen cinco electrones también en su última órbita
[como el antimonio (Sb) o el arsénico (As)]. Una vez
dopados, el silicio o el germanio se convierten en
 En la actualidad el elemento más
utilizado para fabricar
semiconductores para el uso de la
industria electrónica es el cristal de
silicio (Si) por ser un componente
relativamente barato de obtener. La
materia prima empleada para
fabricar cristales semiconductores
de silicio es la arena, uno de los
materiales más abundantes en la
naturaleza. En su forma industrial
primaria el cristal de silicio tiene la
forma de una oblea de muy poco
grosor (entre 0,20 y 0,25 mm
 A la izquierda se muestra la ilustración de una oblea (wafe)
o cristal semiconductor de. silicio pulida con brillo de
espejo, destinada a la fabricación de transistores y
circuitos. integrados. A la derecha aparece la cuarta parte
de la oblea conteniendo cientos de. minúsculos dados o
“chips”, que se pueden obtener de cada una. Esos chips
son los. que después de pasar por un proceso tecnológico
apropiado se convertirán en. transistores o circuitos
integrados. Una vez que los chips se han convertido en.
transistores o circuitos integrados serán desprendidos de
la oblea y colocados dentro. de una cápsula protectora con
sus correspondientes conectores externos.
 El segundo elemento también utilizado como
semiconductor, pero en menor proporción
que el silicio, es el cristal de germanio (Ge).
 Durante mucho tiempo se empleó también el
selenio (S) para fabricar diodos
semiconductores en forma de placas
rectangulares, que combinadas y montadas
en una especie de eje se empleaban para
rectificar la corriente alterna y convertirla en
directa.
 En la producción de semiconductores, se denomina dopaje al
proceso intencional de agregar impurezas en un semiconductor
extremadamente puro (también referido como intrínseco) con el
fin de cambiar sus propiedades eléctricas. Las impurezas
utilizadas dependen del tipo de semiconductores a dopar. A los
semiconductores con dopajes ligeros y moderados se los conoce
como extrínsecos. Un semiconductor altamente dopado que
actúa más como un conductor que como un semiconductor es
llamado degenerado.
 El número de átomos dopantes necesitados para crear una
diferencia en las capacidades conductoras de un semiconductor
es muy pequeña. Cuando se agregan un pequeño número de
átomos dopantes (en el orden de 1 cada 100.000.000 de
átomos) entonces se dice que el dopaje es bajo o ligero. Cuando
se agregan muchos más átomos (en el orden de 1 cada 10.000
átomos) entonces se dice que el dopaje es alto o pesado. Este
dopaje pesado se representa con la nomenclatura N+ para
material de tipo N, o P+ para material de tipo P.
 Son los que están dopados, con
elementos pentavalentes, como por
ejemplo (As, P, Sb). Que sean
elementos pentavalentes, quiere decir
que tienen cinco electrones en la
última capa, lo que hace que al
formarse la estructura cristalina, un
electrón quede fuera de ningún enlace
covalente, quedándose en un nivel
superior al de los otros cuatro. Como
consecuencia de la temperatura,
además de la formación de los pares
e-h, se liberan los electrones que no
 Como ahora en el semiconductor existe un
mayor número de electrones que de
huecos, se dice que los electrones son los
portadores mayoritarios, y a las impurezas
se las llama donadoras.
 En cuanto a la conductividad del material,
esta aumenta de una forma muy elevada,
por ejemplo; introduciendo sólo un átomo
donador por cada 1000 átomos de silicio,
la conductividad es 24100 veces mayor
que la del silicio puro.
 El siguiente es un ejemplo de
dopaje de Silicio por el Fósforo
(dopaje N). En el caso del
Fósforo, se dona un electrón.
 En este caso son los que están
dopados con elementos
trivalentes, (Al, B, Ga, In). El
hecho de ser trivalentes, hace
que a la hora de formar la
estructura cristalina, dejen una
vacante con un nivel energético
ligeramente superior al de la
banda de valencia, pues no
existe el cuarto electrón que lo
 Esto hace que los electrones
salten a las vacantes con
facilidad, dejando huecos en la
banda de valencia, y siendo los
huecos portadores mayoritarios.
 El siguiente es un ejemplo de
dopaje de Silicio por el Boro (P
dopaje). En el caso del boro le falta
un electrón y, por tanto, es donado
un hueco de electrón.
 http://es.wikipedia.org/wiki/Semiconductor
 http://www.monografias.com/trabajos11/se
mi/semi.shtml
 http://www.asifunciona.com/fisica/ke_semic
onductor/ke_semiconductor_3.htm
 http://www.etitudela.com/Electrotecnia/dow
nloads/introduccion.pdf
 http://www.ifent.org/lecciones/semiconduct
or/default.asp

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SEMICONDUCTORES

  • 1. ALUMNO CARLOS ALBERTO MORALES LARRAÑAGA INGENIERÍA DE SISTEMAS E INFORMÁTICA IV CICLO
  • 2.  Un semiconductor es un elemento que se comporta como un conductor o como aislante dependiendo de diversos factores, como por ejemplo el campo eléctrico o magnético, la presión, la radiación que le incide, o la temperatura del ambiente en el que se encuentre.
  • 3.  Se dice que un semiconductor es “intrínseco” cuando se encuentra en estado puro, o sea, que no contiene ninguna impureza, ni átomos de otro tipo dentro de su estructura. En ese caso, la cantidad de huecos que dejan los electrones en la banda de valencia al atravesar la banda prohibida será igual a la cantidad de electrones libres que se encuentran presentes en la banda de conducción.
  • 4.  Cuando se eleva la temperatura de la red cristalina de un elemento semiconductor intrínseco, algunos de los enlaces covalentes se rompen y varios electrones pertenecientes a la banda de valencia se liberan de la atracción que ejerce el núcleo del átomo sobre los mismos. Esos electrones libres saltan a la banda de conducción y allí funcionan como “electrones de conducción”, pudiéndose desplazar libremente de un átomo a otro dentro de la propia estructura cristalina, siempre que el elemento semiconductor se estimule con el paso de una corriente eléctrica.
  • 5.  Como se puede observar en la ilustración, en el caso de los semiconductores el espacio correspondiente a la banda prohibida es mucho más estrecho en comparación con los materiales aislantes. La energía de salto de banda (Eg) requerida por los electrones para saltar de la banda de valencia a la de conducción es de 1 eV aproximadamente. En los semiconductores de silicio (Si), la energía de salto de banda requerida por los electrones es de 1,21 eV, mientras que en los de germanio (Ge) es de 0,785 eV.
  • 6.  Estructura cristalina de un semiconductor intrínseco, compuesta solamente por átomos de silicio (Si) que forman una celosía. Como se puede observar en la ilustración, los átomos de silicio (que sólo poseen cuatro electrones en la última órbita o banda de valencia), se unen formando enlaces covalente para completar ocho electrones y crear así un cuerpo sólido semiconductor. En esas condiciones el cristal de silicio se comportará igual que si fuera un cuerpo aislante.
  • 7.  Cuando a la estructura molecular cristalina del silicio o del germanio se le introduce cierta alteración, esos elementos semiconductores permiten el paso de la corriente eléctrica por su cuerpo en una sola dirección. Para hacer posible, la estructura molecular del semiconductor se dopa mezclando los átomos de silicio o de germanio con pequeñas cantidades de átomos de otros elementos o "impurezas".  Generalmente los átomos de las “impurezas” corresponden también a elementos semiconductores que, en lugar de cuatro, poseen tres electrones en su última órbita [como el galio (Ga) o el indio (In)], o que poseen cinco electrones también en su última órbita [como el antimonio (Sb) o el arsénico (As)]. Una vez dopados, el silicio o el germanio se convierten en
  • 8.  En la actualidad el elemento más utilizado para fabricar semiconductores para el uso de la industria electrónica es el cristal de silicio (Si) por ser un componente relativamente barato de obtener. La materia prima empleada para fabricar cristales semiconductores de silicio es la arena, uno de los materiales más abundantes en la naturaleza. En su forma industrial primaria el cristal de silicio tiene la forma de una oblea de muy poco grosor (entre 0,20 y 0,25 mm
  • 9.  A la izquierda se muestra la ilustración de una oblea (wafe) o cristal semiconductor de. silicio pulida con brillo de espejo, destinada a la fabricación de transistores y circuitos. integrados. A la derecha aparece la cuarta parte de la oblea conteniendo cientos de. minúsculos dados o “chips”, que se pueden obtener de cada una. Esos chips son los. que después de pasar por un proceso tecnológico apropiado se convertirán en. transistores o circuitos integrados. Una vez que los chips se han convertido en. transistores o circuitos integrados serán desprendidos de la oblea y colocados dentro. de una cápsula protectora con sus correspondientes conectores externos.
  • 10.  El segundo elemento también utilizado como semiconductor, pero en menor proporción que el silicio, es el cristal de germanio (Ge).  Durante mucho tiempo se empleó también el selenio (S) para fabricar diodos semiconductores en forma de placas rectangulares, que combinadas y montadas en una especie de eje se empleaban para rectificar la corriente alterna y convertirla en directa.
  • 11.  En la producción de semiconductores, se denomina dopaje al proceso intencional de agregar impurezas en un semiconductor extremadamente puro (también referido como intrínseco) con el fin de cambiar sus propiedades eléctricas. Las impurezas utilizadas dependen del tipo de semiconductores a dopar. A los semiconductores con dopajes ligeros y moderados se los conoce como extrínsecos. Un semiconductor altamente dopado que actúa más como un conductor que como un semiconductor es llamado degenerado.  El número de átomos dopantes necesitados para crear una diferencia en las capacidades conductoras de un semiconductor es muy pequeña. Cuando se agregan un pequeño número de átomos dopantes (en el orden de 1 cada 100.000.000 de átomos) entonces se dice que el dopaje es bajo o ligero. Cuando se agregan muchos más átomos (en el orden de 1 cada 10.000 átomos) entonces se dice que el dopaje es alto o pesado. Este dopaje pesado se representa con la nomenclatura N+ para material de tipo N, o P+ para material de tipo P.
  • 12.  Son los que están dopados, con elementos pentavalentes, como por ejemplo (As, P, Sb). Que sean elementos pentavalentes, quiere decir que tienen cinco electrones en la última capa, lo que hace que al formarse la estructura cristalina, un electrón quede fuera de ningún enlace covalente, quedándose en un nivel superior al de los otros cuatro. Como consecuencia de la temperatura, además de la formación de los pares e-h, se liberan los electrones que no
  • 13.  Como ahora en el semiconductor existe un mayor número de electrones que de huecos, se dice que los electrones son los portadores mayoritarios, y a las impurezas se las llama donadoras.  En cuanto a la conductividad del material, esta aumenta de una forma muy elevada, por ejemplo; introduciendo sólo un átomo donador por cada 1000 átomos de silicio, la conductividad es 24100 veces mayor que la del silicio puro.
  • 14.  El siguiente es un ejemplo de dopaje de Silicio por el Fósforo (dopaje N). En el caso del Fósforo, se dona un electrón.
  • 15.  En este caso son los que están dopados con elementos trivalentes, (Al, B, Ga, In). El hecho de ser trivalentes, hace que a la hora de formar la estructura cristalina, dejen una vacante con un nivel energético ligeramente superior al de la banda de valencia, pues no existe el cuarto electrón que lo
  • 16.  Esto hace que los electrones salten a las vacantes con facilidad, dejando huecos en la banda de valencia, y siendo los huecos portadores mayoritarios.
  • 17.  El siguiente es un ejemplo de dopaje de Silicio por el Boro (P dopaje). En el caso del boro le falta un electrón y, por tanto, es donado un hueco de electrón.
  • 18.  http://es.wikipedia.org/wiki/Semiconductor  http://www.monografias.com/trabajos11/se mi/semi.shtml  http://www.asifunciona.com/fisica/ke_semic onductor/ke_semiconductor_3.htm  http://www.etitudela.com/Electrotecnia/dow nloads/introduccion.pdf  http://www.ifent.org/lecciones/semiconduct or/default.asp