TRANSISTOR BJT
Zonas de funcionamiento del transistor bipolar:

1. ACTIVA DIRECTA: El transistor sólo amplifica en
      esta zona, y se comporta como una fuente de
      corriente constante controlada por la intensidad
      de base (ganancia de corriente).Este parámetro
      lo suele proporcionar el fabricante dandonos un
      máximo y un mínimo para una corriente de
      colector dada (Ic); además de esto, suele
      presentar una variación acusada con la
      temperatura y con la corriente de colector, por lo
      que en principio no podemos conocer su valor.
      Algunos polímetros son capaces de medir este
      parámetro pero esta medida hay que tomarla
      solamente como una indicación, ya que el
      polímetro mide este parámetro para un valor de
      corriente de colector distinta a la que circulará
      por el BJT una vez en el circuito.

2. SATURACIÓN: En esta zona el transistor es utilizado
      para aplicaciones de conmutación (potencia,
      circuitos digitales, etc.), y lo podemos
      considerar como un cortocircuito entre el
      colector y el emisor.

3. CORTE: el transistor es utilizado para aplicaciones     El transistor PNP es complemento del NPN de forma que
      de conmutación (potencia, circuitos digitales,              todos los voltajes y corrientes son opuestos a los del
                                                                  transistor NPN.
      etc.), y podemos considerar las corrientes que lo
      atraviesan practicamente nulas (y en especial
      Ic).
                                                           Para encontrar el circuito PNP complementario:
3. ACTIVA INVERSA: Esta zona se puede considerar           1. Se sustituye el transistor NPN por un PNP.
      como carente de interés.
                                                           2. Se invierten todos los voltajes y corrientes.
TRANSISTORES JFET
El JFET de canal n está constituido por una barra de        Por ello, en el JFET intervienen como parámetros: ID
      silicio de material semiconductor de tipo n con               (intensidad drain o drenador a source o fuente), VGS
      dos regiones (islas) de material tipo p situadas a            (tensión gate o puerta a source o fuente) y VDS
      ambos lados.                                                  (tensión drain o drenador a source o fuente). Se
                                                                    definen cuatro regiones básicas de operación: corte,
                                                                    lineal, saturación y ruptura. A continuación se realiza
Es un elemento tri-terminal cuyos terminales se                     una descripción breve de cada una de estas regiones
      denominan drenador (drain), fuente (source) y                 para el caso de un NJFET.
      puerta (gate).
En la figura 1.10.a se describe un esquema de un JFET
       de canal n, en la 1.10.b el símbolo de este
       dispositivo y en la 1.10.c el símbolo de un JFET
       de canal P
La polarización de un JFET exige que las uniones p-n
      estén inversamente polarizadas.
En un JFET de canal n, o NJFET, la tensión de
      drenador debe ser mayor que la de la fuente para
      que exista un flujo de corriente a través de canal.
Además, la puerta debe tener una tensión más
    negativa que la fuente para que la unión p-n se
    encuentre polarizado inversamente. Ambas
    polarizaciones se indican en la figura 1.11.
Las curvas de características eléctricas de un JFET
      son muy similares a las curvas de los
      transistores bipolares. Sin embargo, los JFET
      son dispositivos controlados por tensión a
      diferencia de los bipolares que son dispositivos
      controlados por corriente.
TRANSISTORES MOSFET
MOSFET significa "FET de Metal Oxido Semiconductor" o FET de compuerta aislada


Es un tipo especial de transistor FET que tiene una versión NPN y otra PNP.


El NPN es llamado MOSFET de canal N y el PNP es llamado MOSFET de canal P.


Una delgada capa de material aislante formada de dióxido de silicio (SiO2) (también llamada "sílice" o "sílica") es colocada del lado del
     semiconductor y una capa de metal es colocada del lado de la compuerta (GATE) (ver la figura)


En el MOSFET de canal N la parte "N" está conectado a la fuente (source) y al drenaje (drain)
En el MOSFET de canal P la parte "P" está conectado a la fuente (source) y al drenaje (drain)




En los transistores bipolares la corriente que circula por el colector es controlada por la corriente que circula por la base. Sin embargo en el caso
      de los transistores FET, la corriente de salida es controlada por una tensión de entrada (un campo eléctrico). En este caso no existe corriente
      de entrada.


Los transistores MOSFET se pueden dañar con facilidad y hay que manipularlos con cuidado. Debido a que la capa de óxido es muy delgada, se
      puede destruir con facilidad si hay alta tensión o hay electricidad estática.
FOTOTRANSISTOR
Los fototransistores se construyen con silicio o germanio, similarmente a
   cualquier tipo de transistor bipolar. Existen tanto fototransistores NPN como
   PNP. Debido a que la radiación es la que dispara la base del transistor, y no
   una corriente aplicada eléctricamente, usualmente la patilla correspondiente a
   la base no se incluye en el transistor. El método de construcción es el de
   difusión. Este consiste en que se utiliza silicio o germanio, así como gases,
   impurezas o dopantes. Por medio de la difusión, los gases dopantes penetran
   la superficie sólida del silicio. Sobre una superficie sobre la cual ya ha ocurrido
   la difusión, se pueden realizar difusiones posteriores, creando capas de
   dopantes en el material. La parte exterior del fototransistor está hecha de un
   material llamado epoxy, que es una resina que permite el ingreso de radiación
   hacia la base del transistor.

   En la figura 10 se puede observar el aspecto físico de un fototransistor.
INFORMACION ELECTRONICA
http://www.webelectronica.com.ar/news10/nota014/optoelectronica2.htm
http://www.unicrom.com/Tut_Caracteristicas_electricas_JFET.asp
http://html.rincondelvago.com/diodos-y-transistores.html

Transistores

  • 2.
    TRANSISTOR BJT Zonas defuncionamiento del transistor bipolar: 1. ACTIVA DIRECTA: El transistor sólo amplifica en esta zona, y se comporta como una fuente de corriente constante controlada por la intensidad de base (ganancia de corriente).Este parámetro lo suele proporcionar el fabricante dandonos un máximo y un mínimo para una corriente de colector dada (Ic); además de esto, suele presentar una variación acusada con la temperatura y con la corriente de colector, por lo que en principio no podemos conocer su valor. Algunos polímetros son capaces de medir este parámetro pero esta medida hay que tomarla solamente como una indicación, ya que el polímetro mide este parámetro para un valor de corriente de colector distinta a la que circulará por el BJT una vez en el circuito. 2. SATURACIÓN: En esta zona el transistor es utilizado para aplicaciones de conmutación (potencia, circuitos digitales, etc.), y lo podemos considerar como un cortocircuito entre el colector y el emisor. 3. CORTE: el transistor es utilizado para aplicaciones El transistor PNP es complemento del NPN de forma que de conmutación (potencia, circuitos digitales, todos los voltajes y corrientes son opuestos a los del transistor NPN. etc.), y podemos considerar las corrientes que lo atraviesan practicamente nulas (y en especial Ic). Para encontrar el circuito PNP complementario: 3. ACTIVA INVERSA: Esta zona se puede considerar 1. Se sustituye el transistor NPN por un PNP. como carente de interés. 2. Se invierten todos los voltajes y corrientes.
  • 3.
    TRANSISTORES JFET El JFETde canal n está constituido por una barra de Por ello, en el JFET intervienen como parámetros: ID silicio de material semiconductor de tipo n con (intensidad drain o drenador a source o fuente), VGS dos regiones (islas) de material tipo p situadas a (tensión gate o puerta a source o fuente) y VDS ambos lados. (tensión drain o drenador a source o fuente). Se definen cuatro regiones básicas de operación: corte, lineal, saturación y ruptura. A continuación se realiza Es un elemento tri-terminal cuyos terminales se una descripción breve de cada una de estas regiones denominan drenador (drain), fuente (source) y para el caso de un NJFET. puerta (gate). En la figura 1.10.a se describe un esquema de un JFET de canal n, en la 1.10.b el símbolo de este dispositivo y en la 1.10.c el símbolo de un JFET de canal P La polarización de un JFET exige que las uniones p-n estén inversamente polarizadas. En un JFET de canal n, o NJFET, la tensión de drenador debe ser mayor que la de la fuente para que exista un flujo de corriente a través de canal. Además, la puerta debe tener una tensión más negativa que la fuente para que la unión p-n se encuentre polarizado inversamente. Ambas polarizaciones se indican en la figura 1.11. Las curvas de características eléctricas de un JFET son muy similares a las curvas de los transistores bipolares. Sin embargo, los JFET son dispositivos controlados por tensión a diferencia de los bipolares que son dispositivos controlados por corriente.
  • 4.
    TRANSISTORES MOSFET MOSFET significa"FET de Metal Oxido Semiconductor" o FET de compuerta aislada Es un tipo especial de transistor FET que tiene una versión NPN y otra PNP. El NPN es llamado MOSFET de canal N y el PNP es llamado MOSFET de canal P. Una delgada capa de material aislante formada de dióxido de silicio (SiO2) (también llamada "sílice" o "sílica") es colocada del lado del semiconductor y una capa de metal es colocada del lado de la compuerta (GATE) (ver la figura) En el MOSFET de canal N la parte "N" está conectado a la fuente (source) y al drenaje (drain) En el MOSFET de canal P la parte "P" está conectado a la fuente (source) y al drenaje (drain) En los transistores bipolares la corriente que circula por el colector es controlada por la corriente que circula por la base. Sin embargo en el caso de los transistores FET, la corriente de salida es controlada por una tensión de entrada (un campo eléctrico). En este caso no existe corriente de entrada. Los transistores MOSFET se pueden dañar con facilidad y hay que manipularlos con cuidado. Debido a que la capa de óxido es muy delgada, se puede destruir con facilidad si hay alta tensión o hay electricidad estática.
  • 5.
    FOTOTRANSISTOR Los fototransistores seconstruyen con silicio o germanio, similarmente a cualquier tipo de transistor bipolar. Existen tanto fototransistores NPN como PNP. Debido a que la radiación es la que dispara la base del transistor, y no una corriente aplicada eléctricamente, usualmente la patilla correspondiente a la base no se incluye en el transistor. El método de construcción es el de difusión. Este consiste en que se utiliza silicio o germanio, así como gases, impurezas o dopantes. Por medio de la difusión, los gases dopantes penetran la superficie sólida del silicio. Sobre una superficie sobre la cual ya ha ocurrido la difusión, se pueden realizar difusiones posteriores, creando capas de dopantes en el material. La parte exterior del fototransistor está hecha de un material llamado epoxy, que es una resina que permite el ingreso de radiación hacia la base del transistor. En la figura 10 se puede observar el aspecto físico de un fototransistor.
  • 6.