TEMA: SEMICONDUCTORES INTRÍNSECOS Y DOPADOS
ALUMNO: DE LA CRUZ DELGADO, HÉCTOR
CARRERA: INGENIERÍA DE SISTEMAS
CURSO: FÍSICA ELECTRÓNICA
Un material semiconductor
hecho sólo de un único tipo
de átomo, se denomina:
SEMICONDUCTOR INTRÍNSECO.
SEMICONDUCTOR INTRÍNSECO.
•Se dice que un semiconductor es “intrínseco” cuando
se encuentra en estado puro, o sea, que no contiene
ninguna impureza, ni átomos de otro tipo dentro de
su estructura. En ese caso, la cantidad de huecos que
dejan los electrones en la banda de valencia al
atravesar la banda prohibida será igual a la cantidad
de electrones libres que se encuentran presentes en la
banda de conducción.
• Los más empleados históricamente son el germanio (Ge) y el silicio
(Si); siendo éste último el más empleado (por ser mucho más
abundante y poder trabajar a temperaturas mayores que el
germanio).
• Cuando se eleva la temperatura de la red cristalina de un
elemento semiconductor intrínseco, algunos de los enlaces
covalentes se rompen y varios electrones pertenecientes a la
banda de valencia se liberan de la atracción que ejerce el
núcleo del átomo sobre los mismos. Esos electrones libres
saltan a la banda de conducción y allí funcionan como
“electrones de conducción”, pudiéndose desplazar
libremente de un átomo a otro dentro de la propia
estructura cristalina, siempre que el elemento
semiconductor se estimule con el paso de una corriente
eléctrica.
Estructura cristalina de un semiconductor
intrínseco, compuesta solamente por átomos de
silicio (Si) que forman una celosía. Como se
puede observar en la ilustración, los átomos de
silicio (que sólo poseen cuatro electrones en la
última órbita o banda de valencia), se unen
formando enlaces covalente para completar
ocho electrones y crear así un cuerpo sólido
semiconductor. En esas condiciones el cristal de
silicio se comportará igual que si fuera un
cuerpo aislante.
• Dopaje (semiconductores): Es el proceso de agregar intencionalmente
impurezas en un semiconductor extremadamente puro con el fin de
cambiar sus propiedades eléctricas.
SEMICONDUCTORES DOPADOS
En la producción de semiconductores, se
denomina dopaje al proceso intencional de
agregar impurezas en un semiconductor
extremadamente puro (también referido
como intrínseco) con el fin de cambiar sus
propiedades eléctricas. Las impurezas
utilizadas dependen del tipo de
semiconductores a dopar. A los
semiconductores con dopajes ligeros y
moderados se los conoce como extrínsecos.
Un semiconductor altamente dopado, que
actúa más como un conductor que como
un semiconductor, es llamado degenerado.
• Elementos dopantes:
Semiconductores de Grupo IV
Para los semiconductores del
Grupo IV como Silicio,
Germanio y Carburo de silicio,
los dopantes más comunes
son elementos del Grupo III o
del Grupo V. Boro, Arsénico,
Fósforo, y ocasionalmente
Galio, son utilizados para
dopar al Silicio.
BORO ARSÉNICO
FÓSFORO
GALIO
El siguiente es un ejemplo de dopaje de Silicio por el Fósforo (dopaje N)
En el caso del Fósforo, se dona un electrón.
• El siguiente es un ejemplo de dopaje de Silicio por el Boro (P
dopaje). En el caso del boro le falta un electrón y, por tanto, es
donado un hueco de electrón.
• http://www.asifunciona.com/fisica/ke_semiconductor/ke_semiconductor_4.htm
• http://pelandintecno.blogspot.com/2014/04/semiconductores-intrinsecos-y.html
• http://es.wikipedia.org/wiki/Dopaje_(semiconductores)
• http://es.wikipedia.org/wiki/Dopaje_(desambiguaci%C3%B3n)
• http://es.wikipedia.org/wiki/Dopaje_(semiconductores)#Elementos_dopantes

Semiconductores

  • 1.
    TEMA: SEMICONDUCTORES INTRÍNSECOSY DOPADOS ALUMNO: DE LA CRUZ DELGADO, HÉCTOR CARRERA: INGENIERÍA DE SISTEMAS CURSO: FÍSICA ELECTRÓNICA
  • 2.
    Un material semiconductor hechosólo de un único tipo de átomo, se denomina: SEMICONDUCTOR INTRÍNSECO. SEMICONDUCTOR INTRÍNSECO.
  • 3.
    •Se dice queun semiconductor es “intrínseco” cuando se encuentra en estado puro, o sea, que no contiene ninguna impureza, ni átomos de otro tipo dentro de su estructura. En ese caso, la cantidad de huecos que dejan los electrones en la banda de valencia al atravesar la banda prohibida será igual a la cantidad de electrones libres que se encuentran presentes en la banda de conducción.
  • 4.
    • Los másempleados históricamente son el germanio (Ge) y el silicio (Si); siendo éste último el más empleado (por ser mucho más abundante y poder trabajar a temperaturas mayores que el germanio).
  • 5.
    • Cuando seeleva la temperatura de la red cristalina de un elemento semiconductor intrínseco, algunos de los enlaces covalentes se rompen y varios electrones pertenecientes a la banda de valencia se liberan de la atracción que ejerce el núcleo del átomo sobre los mismos. Esos electrones libres saltan a la banda de conducción y allí funcionan como “electrones de conducción”, pudiéndose desplazar libremente de un átomo a otro dentro de la propia estructura cristalina, siempre que el elemento semiconductor se estimule con el paso de una corriente eléctrica.
  • 6.
    Estructura cristalina deun semiconductor intrínseco, compuesta solamente por átomos de silicio (Si) que forman una celosía. Como se puede observar en la ilustración, los átomos de silicio (que sólo poseen cuatro electrones en la última órbita o banda de valencia), se unen formando enlaces covalente para completar ocho electrones y crear así un cuerpo sólido semiconductor. En esas condiciones el cristal de silicio se comportará igual que si fuera un cuerpo aislante.
  • 7.
    • Dopaje (semiconductores):Es el proceso de agregar intencionalmente impurezas en un semiconductor extremadamente puro con el fin de cambiar sus propiedades eléctricas. SEMICONDUCTORES DOPADOS
  • 8.
    En la producciónde semiconductores, se denomina dopaje al proceso intencional de agregar impurezas en un semiconductor extremadamente puro (también referido como intrínseco) con el fin de cambiar sus propiedades eléctricas. Las impurezas utilizadas dependen del tipo de semiconductores a dopar. A los semiconductores con dopajes ligeros y moderados se los conoce como extrínsecos. Un semiconductor altamente dopado, que actúa más como un conductor que como un semiconductor, es llamado degenerado.
  • 9.
    • Elementos dopantes: Semiconductoresde Grupo IV Para los semiconductores del Grupo IV como Silicio, Germanio y Carburo de silicio, los dopantes más comunes son elementos del Grupo III o del Grupo V. Boro, Arsénico, Fósforo, y ocasionalmente Galio, son utilizados para dopar al Silicio. BORO ARSÉNICO FÓSFORO GALIO
  • 10.
    El siguiente esun ejemplo de dopaje de Silicio por el Fósforo (dopaje N) En el caso del Fósforo, se dona un electrón.
  • 11.
    • El siguientees un ejemplo de dopaje de Silicio por el Boro (P dopaje). En el caso del boro le falta un electrón y, por tanto, es donado un hueco de electrón.
  • 12.
    • http://www.asifunciona.com/fisica/ke_semiconductor/ke_semiconductor_4.htm • http://pelandintecno.blogspot.com/2014/04/semiconductores-intrinsecos-y.html •http://es.wikipedia.org/wiki/Dopaje_(semiconductores) • http://es.wikipedia.org/wiki/Dopaje_(desambiguaci%C3%B3n) • http://es.wikipedia.org/wiki/Dopaje_(semiconductores)#Elementos_dopantes