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Métodos de Preparación de Nuevos
   Materiales Nanoestructurados

                Jorge Mata Ramírez


       Instituto Tecnológico de Ensenada



Ensenada, Baja California, México
                                    7 de octubre de 2009
Introducción

Tipos de Materiales.
Diferentes métodos de crecimiento
Cristalino.
Procesos para el crecimiento cristalino a
partir del fundido.
Método de Czochralski.
Caracterización.
INTRODUCCIÓN.
         Motivación para el crecimiento de cristales.
- Ingeniería y ciencia de materiales, Física, Química, Biología, etc.:
Las características de sólidos son obscuras por los límites naturales de
investigación.
- Metales
- Semiconductores
- Superconductores
- Dieléctricos
- Plásticos
- Cristales de proteínas
Etc.
                ¿Para que estudiar materiales?
  Características uniformes en los dispositivos microscópicos:
  electrónicas, ópticas, y mecánicas, Magnéticas, etc.
Crecimiento a partir del fundido
   Condiciones:
El material se debe derretir congruentemente (ningún cambio en la
composición durante el fundido) e.g. los cristales de YAG y rubí para
su uso en láser.
El material no debe descomponerse antes e.g. SiC

- El material no debe experimentar una transformación de fase de
estado sólido entre el punto de fusión y la temperatura ambiente, e.g.
SiO2 se crece en solución (transición del cuarzo en 583°C).
Métodos para crecimiento de Cristales

      • Solidificación direccional desde el fundido ~ cm/hr
                                                          VLSI
                                                          ~ 106
                                                          devices



                 Boules                25 wafers/inch
                                     (substrate for IC)

  •Crecimiento en Solución (sobresaturación) ~mm/dia

                                            Capas delgadas
                                             Monocristales
• Crecimiento en fase de Vapor (sublimación-condensación) ~ µm/hr.
Ventajas de la solidificación

- Rápido (~cm/hr); la velocidad de crecimiento depende de
la transferencia de calor (no de la de masa).
- Variedad de técnicas desarrolladas (e.g. el estirar el
cristal y su solidificación direccional y de zona.
Crecimiento a partir de Solución
Para Materiales, por qué?:

    (i) El fundido no es congruente,
    (ii) Algunos se descomponen antes de derretir,
    (iii) Experimenta una transformación de fase de estado sólido antes
    de fundir
    (iv) Tiene un alto punto de fusión.
    La clasificación se basa en el tipo de solvente.
    Requisito: Solvente de la pureza elevada que es insoluble en el
    cristal.
Crecimiento por fusión de sales (flujo)

Solventes comunes: PbO, PbF2, B2O3, KF.

Utilizado para trabajar con los óxidos con altos puntos de fusión e.g. el
granadato de hierro e itrio (Y3Fe5O12 YIG) se crece a partir de soluciones
porque no se derrite congruentemente. Menos de 1000 °C.

Ventajas: El crecimiento es a temperaturas mucho más bajas que las de
fusión.

Desventajas: muy lento. Inhomegeniedades en la pureza de la frontera,
Caro: crisoles del platino. Algunas veces la estequiometría es difícil de
controlar.




                                                             Bismuto
Crecimiento Metálico en Solución
                             Epitaxia de Fase líquida

       - Capas epitaxiales de la alta calidad de compuestos semiconductores
     i.e. de elementos III-V; GaAs de la solución de Ga (fusión con el 50% Ga).
                 GaSb de la solución de Ga (fusión con el 50% Ga).
   -Compuestos ternarios III-V (soluciones sólidas de los compuestos de III-V):
                                -Ga1-xlnxAs, GaAsxP1-x.

Ventajas: el crecimiento es a temperaturas más bajas que en el crecimiento a partir
                        de fundido mostrando alta calidad.
  desventajas: Muy lentos en obtenerse, cristales o capas delgadas pequeños.




CaF2 epitaxial film grown on silicon(100).              Silicio Epitaxial
Crecimiento Hidrotermal

-Utilizando una Solución acuosa a alta temperatura y presión.
(e.g. SiO2 es obtenido por crecimiento hidrotérmico con una
presion de 2000 bars y 400 °C debido a transición α-β del
cuarzo en 583°C).
Crecimiento a partir de la fase de vapor

Crecimiento en bulto: solamente cuando otros métodos no son útiles
(sublimación-condensación de SiC, de AlN).
Capas delgadas, es decir, epitaxia de la fase del vapor: utilizado
extensivamente (CVD, sputtering). E.g. SiC se crece a partir de la fase
del vapor (sublimación-condensación) porque se descompone antes de
derretir.
Procesos de crecimiento cristalino
          a partir del fundido
          Solidificación Direccional, i.e.
                Proceso Bridgman
            - Método Czochralski (CZ)
      - Zona de fundido y Zona Flotante (FZ).




Czochralski            Bridgman
Solidificación Direccional, i.e.
    Crecimiento Bridgman Vertical / Horizontal

         PASOS

1. La carga y la “semilla” se
   colocan en el crisol.
2. Proceso conservador: no
   se agrega ni se quita
   ningún material a partir
   de fase sólida o líquida,
   excepto por la
   cristalización.
3. El gradiente axial de la
   temperatura se impone a
   lo largo del crisol.
Seeding: Parte de la   Crecimiento: La interfaz es
 semilla es fundida    variada moviendo el envase o
                       el gradiente (fuente de calor
                       del horno).
Metodo Bridgman
Ventajas del Proceso Bridgman


- Crecimiento confinado, la forma del cristal es definida por el
envase.
- Los gradientes radiales de la temperatura no son necesarios de
controlar.
- Controlando la tensión térmica resulta en un nivel bajo de
dislocaciones.
- Los cristales se pueden crecer en ámpulas selladas (La
estequiometría desde el fundido es fácil de controlar).
- Nivel relativamente bajo de la convección natural; Derretimiento
expuesto a los gradientes de la temperatura que se estabilizan
(VB solamente).
- El proceso requiere poca atención (mantenimiento).
Desventajas del Proceso Bridgman
Desventajas:
 Crecimiento confinado: presión del envase en el cristal durante el
enfriamiento.
Difícil de observar el “sembrado” en el proceso del crecimiento
cristalino.
El nivel de los cambios naturales de convección como el de fundido se
agota, convección forzada.
Requiere de un Ámpula y la preparación de la semilla, el sellado, etc.

Aplicaciones:
    Fundido con constituyentes volátiles :
    III-V (GaAs, lnP, GaSb) y II- compuestos VI (CdTe).
    Compuestos ternarios (Ga1-xlnxAs, Ga1-xlnxSb, Hg1-xCdxTe).
Encapsulado en Fase Líquida
                                          T1              Crisol
 Ventajas:
 - Previene el contacto entre el                          Encapsulado
 cristal y el fundido.                  T1<T2
                                                          fundido
 - Nucleación reducida.
 - Tensión térmica menor                  T2              Cristal
 - Evaporación menor
Propiedades de un buen encapsulado.
 - temperatura de fusión menor que en
 el cristal.                                    Mejores Cápsulas:
 -Baja presión de vapor.
                                                    - B2O3 , KCl,
 - Densidad menor que la densidad de
 fundido.                                        - LiCl, CaCl2, NaCl
 - No reacciona con el fundido del
 crisol.
Método Czochralski (CZ):

Proceso Conservador: no se
agrega ni es quitado ningún
  material a partir de fase
sólida o líquida, excepto por
      la cristalización.

La carga se lleva a cabo en la
temperatura levemente sobre
      punto de fusión.
 La semilla se sumerge en el
     derretido y se retira
         lentamente.

El cristal crece mientras que
   los átomos fundidos se
    adhieren a la semilla.
Ventajas
- Crecimiento de libre superficial (de acuerdo con el cambio de volumen).
- El cristal formado, puede ser observado.
- Convección forzada, fácil imponer.
- Alto rendimiento en el procesamiento;
  pueden obtenerse cristales muy grandes.
- Puede ser alcanzada una alta perfección cristalina.
- Buena homogeneidad radial

              Esquema del método Czoachralski




              Cristalización y purificación por el método de crecimiento zonal
Desventajas



Los materiales con alta presión
  de vapor no pueden crecer.
Proceso de horno; Difícilmente
 adaptable para el crecimiento
   continuo; resultando una
      segregación axial.
  El cristal tiene que rotar; la
rotación del crisol es deseable.
El proceso requiere la atención
   continua (sembrado) y un
      control sofisticado.
Método de encapsulado Liquido Czochralski (LEC)
        Ventajas:
 Pueden crecerse materiales con
 alta presión del vapor.
 Conserva la mayoría de ventajas
 de CZ: crecimiento de una
 superficie.
 El B2O3 previene la reacción entre
 el fundido y el crisol y entre el
 fundido y el ambiente (eg. Ga2O3).
          Desventajas:

  Alguna perdida de constituyentes
  volátiles..
  “Contaminacion” por B2O3.
  B2O3 es muy viscoso bajo 1000°C.
  Encapsulando se torna opaco al
  final del crecimiento.
Zona de fundido y Zona Flotante
            VENTAJAS
Proceso No conservativo:
El material se agrega a la región fundida.
Solamente una parte pequeña de la carga
es fundida (excepto la semilla).
El gradiente axial de la temperatura se
impone a lo largo del crisol que la zona
fundida (interfaz) es avanzada moviendo la
carga o el gradiente.

La carga es purificada por al repetir el paso
de la zona (refinación de la zona).
Los cristales se pueden crecer en ámpulas selladas
o sin sellar (zona flotante).
Crecimiento de estado estacionario posible.
La nivelación de la zona es posible; puede conducir
a la homogeneidad axial superior.
El proceso requiere poca atención.
Ninguna necesidad de controlar la forma del cristal.
Los gradientes radiales de la temperatura son altos
Inhomogeneidad Microscopica
         (1μm a 1 mm)

Causada por condiciones                   V
inestables:
  •Flujo Inestable (turbulenta),
                                   cold   hot
  temperatura, composición
  •Rotación del cristal
  •Vibraciones
Ejemplos de obtención de Cristales
CRISTALES DE PROTEÍNAS
CRISTALES INTELIGENTES
        1 Cm




                     FERROELECTRICOS

Semiconductores




                       OPTICOS




 Cristal Liquido
Materiales Para Aplicaciones electro-ópticas
Caracterización
Caracterización
Caracterización

____________________Métodos Espectroscópicos_________________

Espectroscopías de electrones en ultra-altovacío (XPS, AES, ISS, UPS)
- Caracterización química y análisis cuantitativo de superficies de sólidos
- Determinación de la estructura electrónica
- Información de banda de valencia y niveles profundos
- Determinación de perfiles de concentración mediante desbastado iónico

Espectroscopías FT-IR y Raman
- Determinación de modos de vibración de red
- Especies adsorbidas
- Caracterización de polímeros
- Mapas de distribución espacial de especies

Espectroscopía ultravioleta-visible
- Absorciones ópticas
- Índice de refracción en el visible y espesores de capas finas.
Caracterización
          MICROSCOPÍAS
Microscopía FT-IR
- Distribución espacial de especies químicas

Microscopía electrónica de barrido (SEM)
- Hasta 15.000 aumentos
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Microscopía electrónica de transmisión (TEM)
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Microscopía de fuerzas atómicas (AFM)
- Determinación de textura superficial
- Posibilidad de caracterización de dominios magnéticos

Microscopía óptica
Conclusiones
- Es importante fabricar nuevos materiales para el estudio y su
aplicación en las nuevas tecnologías.

- El estudio de la perfección de ellos nos conduce a un mejor
entendimiento de las leyes de la naturaleza.

- Tener una misma propiedad microscópica a escala macroscópica.




          Cuarzo                              Insulina
Muchas Gracias
por su Atención
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  • 1. Métodos de Preparación de Nuevos Materiales Nanoestructurados Jorge Mata Ramírez Instituto Tecnológico de Ensenada Ensenada, Baja California, México 7 de octubre de 2009
  • 2. Introducción Tipos de Materiales. Diferentes métodos de crecimiento Cristalino. Procesos para el crecimiento cristalino a partir del fundido. Método de Czochralski. Caracterización.
  • 3. INTRODUCCIÓN. Motivación para el crecimiento de cristales. - Ingeniería y ciencia de materiales, Física, Química, Biología, etc.: Las características de sólidos son obscuras por los límites naturales de investigación. - Metales - Semiconductores - Superconductores - Dieléctricos - Plásticos - Cristales de proteínas Etc. ¿Para que estudiar materiales? Características uniformes en los dispositivos microscópicos: electrónicas, ópticas, y mecánicas, Magnéticas, etc.
  • 4. Crecimiento a partir del fundido Condiciones: El material se debe derretir congruentemente (ningún cambio en la composición durante el fundido) e.g. los cristales de YAG y rubí para su uso en láser. El material no debe descomponerse antes e.g. SiC - El material no debe experimentar una transformación de fase de estado sólido entre el punto de fusión y la temperatura ambiente, e.g. SiO2 se crece en solución (transición del cuarzo en 583°C).
  • 5. Métodos para crecimiento de Cristales • Solidificación direccional desde el fundido ~ cm/hr VLSI ~ 106 devices Boules 25 wafers/inch (substrate for IC) •Crecimiento en Solución (sobresaturación) ~mm/dia Capas delgadas Monocristales • Crecimiento en fase de Vapor (sublimación-condensación) ~ µm/hr.
  • 6. Ventajas de la solidificación - Rápido (~cm/hr); la velocidad de crecimiento depende de la transferencia de calor (no de la de masa). - Variedad de técnicas desarrolladas (e.g. el estirar el cristal y su solidificación direccional y de zona.
  • 7. Crecimiento a partir de Solución Para Materiales, por qué?: (i) El fundido no es congruente, (ii) Algunos se descomponen antes de derretir, (iii) Experimenta una transformación de fase de estado sólido antes de fundir (iv) Tiene un alto punto de fusión. La clasificación se basa en el tipo de solvente. Requisito: Solvente de la pureza elevada que es insoluble en el cristal.
  • 8. Crecimiento por fusión de sales (flujo) Solventes comunes: PbO, PbF2, B2O3, KF. Utilizado para trabajar con los óxidos con altos puntos de fusión e.g. el granadato de hierro e itrio (Y3Fe5O12 YIG) se crece a partir de soluciones porque no se derrite congruentemente. Menos de 1000 °C. Ventajas: El crecimiento es a temperaturas mucho más bajas que las de fusión. Desventajas: muy lento. Inhomegeniedades en la pureza de la frontera, Caro: crisoles del platino. Algunas veces la estequiometría es difícil de controlar. Bismuto
  • 9. Crecimiento Metálico en Solución Epitaxia de Fase líquida - Capas epitaxiales de la alta calidad de compuestos semiconductores i.e. de elementos III-V; GaAs de la solución de Ga (fusión con el 50% Ga). GaSb de la solución de Ga (fusión con el 50% Ga). -Compuestos ternarios III-V (soluciones sólidas de los compuestos de III-V): -Ga1-xlnxAs, GaAsxP1-x. Ventajas: el crecimiento es a temperaturas más bajas que en el crecimiento a partir de fundido mostrando alta calidad. desventajas: Muy lentos en obtenerse, cristales o capas delgadas pequeños. CaF2 epitaxial film grown on silicon(100). Silicio Epitaxial
  • 10. Crecimiento Hidrotermal -Utilizando una Solución acuosa a alta temperatura y presión. (e.g. SiO2 es obtenido por crecimiento hidrotérmico con una presion de 2000 bars y 400 °C debido a transición α-β del cuarzo en 583°C).
  • 11. Crecimiento a partir de la fase de vapor Crecimiento en bulto: solamente cuando otros métodos no son útiles (sublimación-condensación de SiC, de AlN). Capas delgadas, es decir, epitaxia de la fase del vapor: utilizado extensivamente (CVD, sputtering). E.g. SiC se crece a partir de la fase del vapor (sublimación-condensación) porque se descompone antes de derretir.
  • 12. Procesos de crecimiento cristalino a partir del fundido Solidificación Direccional, i.e. Proceso Bridgman - Método Czochralski (CZ) - Zona de fundido y Zona Flotante (FZ). Czochralski Bridgman
  • 13. Solidificación Direccional, i.e. Crecimiento Bridgman Vertical / Horizontal PASOS 1. La carga y la “semilla” se colocan en el crisol. 2. Proceso conservador: no se agrega ni se quita ningún material a partir de fase sólida o líquida, excepto por la cristalización. 3. El gradiente axial de la temperatura se impone a lo largo del crisol.
  • 14. Seeding: Parte de la Crecimiento: La interfaz es semilla es fundida variada moviendo el envase o el gradiente (fuente de calor del horno).
  • 16. Ventajas del Proceso Bridgman - Crecimiento confinado, la forma del cristal es definida por el envase. - Los gradientes radiales de la temperatura no son necesarios de controlar. - Controlando la tensión térmica resulta en un nivel bajo de dislocaciones. - Los cristales se pueden crecer en ámpulas selladas (La estequiometría desde el fundido es fácil de controlar). - Nivel relativamente bajo de la convección natural; Derretimiento expuesto a los gradientes de la temperatura que se estabilizan (VB solamente). - El proceso requiere poca atención (mantenimiento).
  • 17. Desventajas del Proceso Bridgman Desventajas: Crecimiento confinado: presión del envase en el cristal durante el enfriamiento. Difícil de observar el “sembrado” en el proceso del crecimiento cristalino. El nivel de los cambios naturales de convección como el de fundido se agota, convección forzada. Requiere de un Ámpula y la preparación de la semilla, el sellado, etc. Aplicaciones: Fundido con constituyentes volátiles : III-V (GaAs, lnP, GaSb) y II- compuestos VI (CdTe). Compuestos ternarios (Ga1-xlnxAs, Ga1-xlnxSb, Hg1-xCdxTe).
  • 18. Encapsulado en Fase Líquida T1 Crisol Ventajas: - Previene el contacto entre el Encapsulado cristal y el fundido. T1<T2 fundido - Nucleación reducida. - Tensión térmica menor T2 Cristal - Evaporación menor Propiedades de un buen encapsulado. - temperatura de fusión menor que en el cristal. Mejores Cápsulas: -Baja presión de vapor. - B2O3 , KCl, - Densidad menor que la densidad de fundido. - LiCl, CaCl2, NaCl - No reacciona con el fundido del crisol.
  • 19. Método Czochralski (CZ): Proceso Conservador: no se agrega ni es quitado ningún material a partir de fase sólida o líquida, excepto por la cristalización. La carga se lleva a cabo en la temperatura levemente sobre punto de fusión. La semilla se sumerge en el derretido y se retira lentamente. El cristal crece mientras que los átomos fundidos se adhieren a la semilla.
  • 20. Ventajas - Crecimiento de libre superficial (de acuerdo con el cambio de volumen). - El cristal formado, puede ser observado. - Convección forzada, fácil imponer. - Alto rendimiento en el procesamiento; pueden obtenerse cristales muy grandes. - Puede ser alcanzada una alta perfección cristalina. - Buena homogeneidad radial Esquema del método Czoachralski Cristalización y purificación por el método de crecimiento zonal
  • 21. Desventajas Los materiales con alta presión de vapor no pueden crecer. Proceso de horno; Difícilmente adaptable para el crecimiento continuo; resultando una segregación axial. El cristal tiene que rotar; la rotación del crisol es deseable. El proceso requiere la atención continua (sembrado) y un control sofisticado.
  • 22. Método de encapsulado Liquido Czochralski (LEC) Ventajas: Pueden crecerse materiales con alta presión del vapor. Conserva la mayoría de ventajas de CZ: crecimiento de una superficie. El B2O3 previene la reacción entre el fundido y el crisol y entre el fundido y el ambiente (eg. Ga2O3). Desventajas: Alguna perdida de constituyentes volátiles.. “Contaminacion” por B2O3. B2O3 es muy viscoso bajo 1000°C. Encapsulando se torna opaco al final del crecimiento.
  • 23. Zona de fundido y Zona Flotante VENTAJAS Proceso No conservativo: El material se agrega a la región fundida. Solamente una parte pequeña de la carga es fundida (excepto la semilla). El gradiente axial de la temperatura se impone a lo largo del crisol que la zona fundida (interfaz) es avanzada moviendo la carga o el gradiente. La carga es purificada por al repetir el paso de la zona (refinación de la zona). Los cristales se pueden crecer en ámpulas selladas o sin sellar (zona flotante). Crecimiento de estado estacionario posible. La nivelación de la zona es posible; puede conducir a la homogeneidad axial superior. El proceso requiere poca atención. Ninguna necesidad de controlar la forma del cristal. Los gradientes radiales de la temperatura son altos
  • 24. Inhomogeneidad Microscopica (1μm a 1 mm) Causada por condiciones V inestables: •Flujo Inestable (turbulenta), cold hot temperatura, composición •Rotación del cristal •Vibraciones
  • 25. Ejemplos de obtención de Cristales
  • 27. CRISTALES INTELIGENTES 1 Cm FERROELECTRICOS Semiconductores OPTICOS Cristal Liquido
  • 28. Materiales Para Aplicaciones electro-ópticas
  • 31. Caracterización ____________________Métodos Espectroscópicos_________________ Espectroscopías de electrones en ultra-altovacío (XPS, AES, ISS, UPS) - Caracterización química y análisis cuantitativo de superficies de sólidos - Determinación de la estructura electrónica - Información de banda de valencia y niveles profundos - Determinación de perfiles de concentración mediante desbastado iónico Espectroscopías FT-IR y Raman - Determinación de modos de vibración de red - Especies adsorbidas - Caracterización de polímeros - Mapas de distribución espacial de especies Espectroscopía ultravioleta-visible - Absorciones ópticas - Índice de refracción en el visible y espesores de capas finas.
  • 32. Caracterización MICROSCOPÍAS Microscopía FT-IR - Distribución espacial de especies químicas Microscopía electrónica de barrido (SEM) - Hasta 15.000 aumentos - Resolución lateral ~0.1 µm - Análisis cuantitativos mediante EDAX Microscopía electrónica de transmisión (TEM) - Microscopio de 200 kV - Estudio de textura de materiales - Imágenes de alta resolución (HRTEM) - Análisis elemental - Difracción de electrones - Espectroscopías de pérdida de energía Microscopía de fuerzas atómicas (AFM) - Determinación de textura superficial - Posibilidad de caracterización de dominios magnéticos Microscopía óptica
  • 33. Conclusiones - Es importante fabricar nuevos materiales para el estudio y su aplicación en las nuevas tecnologías. - El estudio de la perfección de ellos nos conduce a un mejor entendimiento de las leyes de la naturaleza. - Tener una misma propiedad microscópica a escala macroscópica. Cuarzo Insulina